Slide 1: 2018年3月期（第21期）決算説明会
2018年3月期（第21期） 決算説明会 2018年５月15日 株式会社ブイ・テクノロジー 代表取締役社長 杉本 重人 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 1
Slide 2: 将来見通し等について
将来見通し等について ・将来見通し 本資料に記載されている当社の計画、戦略、見通し及びその他の歴史的事実でないものは、将来に関する見通しであり、こ れらは現在入手可能な期待、見積、予想に基づいています。これらの期待、見積、予想は、経済情勢・市況の変化、競争環境 の変化、顧客のある国の政策変化、係争中及び将来の訴訟の結果など多くの潜在的リスク、不確実な要素、過程の影響を受け ますので、実際の業績は見通しから大きく異なる結果となる可能性があります。 従って、これら将来予想に関する記述に全面的に依拠することは差し控えて頂きますようお願いいたします。また、当社は 新しい情報、将来の出来事などに基づきこ
Slide 3: 決算概要
決算概要 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 3
Slide 4: 業績ハイライト
業績ハイライト 3期連続で売上、利益、年間受注高、受注残高の最高額を更新。 2017年3月期（第20期） 2018年3月期（第21期） 累計期間 累計期間 増減率 金額 金額 構成比 構成比 （百万円） （百万円） 売上高 45,376 ー 66,067 ー 45.6％ 売上総利益 13,052 28.8％ 21,321 32.3％ 63.3％ 営業利益 5,414 11.9％ 12,545 19.0％ 131.7％ 経常利益 5,406 11.9％ 12,370 18.7％ 128.8％ 親会社株主に帰属 2,813 6.2％ 7,837 11.9％ 178.6％ する純利益 受注高 75,
Slide 5: 検査装置売上高推移
検査装置売上高推移 大型/中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連設備投資の増加を背景に、前年比で10.9％増の着地。 ・TP測定機及び非接触電気検査装置等は、80～90％程度のｼｪｱ確保。堅調に推移。 ・修正装置及び画像検査装置等は、競争激化も製造装置と組合せた製品提案、徹底 的なｺｽﾄﾀﾞｳﾝ、海外生産等により修正装置は、50％～60％程度、画像検査装置は、 30％程度のｼｪｱを確保。 （ｼｪｱは当社推計） 45,000 40,000 検査装置 35,000 30,000 24,456 25,000 22,055 20,000 15,000 TP測定機(Mercury) 10,000 5,000 0 F
Slide 6: 製造装置売上高推移
製造装置売上高推移 大型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連設備投資の増加を背景に、前年比で85.1％増の着地。 ・光配向露光装置の販売は、光配向ﾌﾟﾛｾｽの採用増で増加。VA液晶用の光配向露光装 置としては引続き100％近いｼｪｱを確保。 ・ｶﾗｰﾌｨﾙﾀｰ露光装置は、G10.5対応装置の販売を開始。大型液晶ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ用として 昨年に引き続き100％近いｼｪｱを確保。 ・大型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ用局所ﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙ装置2号試作機を販売。 （ｼｪｱは当社推計） 45,000 製造装置 40,000 37,412 35,000 30,000 20,216 25,000 20,000 ｶﾗｰﾌｨﾙﾀｰ露光装
Slide 7: 地域別連結売上高（前期比）
地域別連結売上高（前期比） 中国の大型/中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連設および韓国の中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連の設備投資が継 続され、海外向け売上高は急増。 70,000 日本 韓国 台湾 中国 66,067 60,000 50,000 45,376 40,000 52,753 30,000 29,798 20,000 10,000 9,259 4,954 5,272 4,079 0 2,240 3,086 （百万円） FY17 Q4 FY18 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 7
Slide 8: 四半期毎連結売上高・利益の推移
四半期毎連結売上高・利益の推移 当第4四半期の売上・利益は、売上増およびコスト削減効果等により最高額を更新。 25,000 50.0% 20,000 40.0% 15,000 30.0% 10,000 20.0% 5,000 10.0% 0 0.0% 2014 2014年3月期 2015 2015年3月期 2016 2016年3月期 2017 2017年3月期 2018 2018年3月期 年3月 年3月 年3月 年3月 年3月 （金額/百万円） Q1 （利益率） 期 Q2 Q3 Q4 期 Q1 Q2 Q3 Q4 期 Q1 Q2 Q3 Q4 期 Q1 Q2 Q3 Q4 期 Q1 Q2 Q3 Q4
Slide 9: 販売費及び一般管理費
販売費及び一般管理費 年初計画通り推移、前年比で14.9％増。 製品出荷および売上の増加等により、発送 費、製品保証関連費用が増加。 その他 製品保証関連費用 発送費 人件費 研究開発費 9,000 8,776 8,000 7,637 1428 7,000 1267 6,000 2095 1979 5,000 1431 4,000 1056 821 3,000 361 2,000 2974 3000 1,000 0 （単位：百万円） FY17 Q4 FY18 Q4 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 9
Slide 10: 連結営業利益の差異分析
連結営業利益の差異分析 売上増およびコスト削減等による粗利率改善等により、前年同期比で 131.7％の増益。 粗利率改善 1,898 当期 営業利益 売上増 12,545 6,371 販管費増 ▲1,138 前期 営業利益 5,414 （単位：百万円） 2017年3月期 2018年3月期 累計 累計 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 10
Slide 11: 連結貸借対照表の推移
連結貸借対照表の推移 資産は、売上増、生産活動の活発化等により、171億円増加。負債は、生産活動の 活発化、増益による未払い法人税の増加などにより、102億円増加。純資産は増益 などにより73億円増加。 総資産 負債・純資産 70,000 70,000 64,786 64,786 1,637 386 60,000 5,968 5,068 55,255 60,000 55,255 1,591 462 50,000 47,563 4,305 50,000 47,563 5,289 1,633 22,281 496 4,793 5,720 40,000 16,744 40,000 38,218 16
Slide 12: 連結キャッシュフローの推移
連結キャッシュフローの推移 た 営業CFは、増収増益により税引前調整純利益が増加、生産活動等に伴う支出等を大 幅に上回り、85億円で着地。 2017年3月期Q4 2018年3月期Q2 2018年3月期Q4 税金調整前純利益 5,606 3,510 12,256 売上債権（増加▲） 1,598 ▲343 ▲3,780 営業活動による 棚卸資産（増加▲） 2,238 ▲6,683 ▲5,665 キャッシュフロー 仕入債務（減少▲） ▲1,331 4,310 7,203 その他 ▲859 1,306 ▲1482 Total 7,252 2,100 8,526 投資活動によるキャッシュフロー Tota
Slide 13: 連結受注残・四半期毎連結受注高の推移
連結受注残・四半期毎連結受注高の推移 3期連続で最高額を更新。中国を中心に大型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ及び中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲの大規模な 投資が継続。受注残は、前年比で59.8％増加。累計受注高は、前年比で45.6％増加。 Q4受注高は、製造装置の前倒し発注により急増。 130,000 115,637 120,000 受注残 受注高 110,000 103,477 97,723 100,000 89,546 90,000 80,000 72,260 72,381 70,000 58,047 60,000 50,377 50,000 42,671 36,996 40,000 34,630 31,290
Slide 14: 製品別受注高推移
製品別受注高推移 受注残は、1,034億円となり11四半期連続で過去最高額を更新。受注は、3 検査装置は、OLED用TFT修正装置のｼｪｱ拡大(50％強まで回復)やﾌｫﾄﾏｽｸ関連製品の 受注が牽引も前年比で-9.2%減少。製造装置は、中国内の大型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連投資が 四半期連続で200億円超を達成。 継続、前年比128％の大幅増。 80,000 80,000 検査装置 製造装置 75,076 70,000 70,000 60,000 60,000 50,000 50,000 40,000 38,100 40,000 32,800 29,755 30,000 30,000 20,000
Slide 15: 事業環境
事業環境 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 15
Slide 16: ディスプレイ需要予測（面積ベース）
ディスプレイ需要予測（面積ベース） 2018年の需要は、年平均5％程度のペースで成長が続く見通し。成長を牽引する要 素として、大画面/高精細、省電力、価格、形状変化（Foldable, Rollable, 軽量化 等）等に注目。 300 単位：Million ㎡ 0 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 世界のディスプレイ産業におけるパネル面積出荷量予測 2016年は実績値、2017年以降は予測（IHS Markit データより当社にて作成）。 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right r
Slide 17: ディスプレイ製造装置市場予測
ディスプレイ製造装置市場予測 2018年の市場は、中国を中心にﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲの投資が継続される一方、その他地域にお いては中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ関連投資の延伸も見込まれ、2017年を下回ると想定。 20 19 16 Billion USD 14 2016年 2017年 2018年 2019年 FPD製造装置市場予測（ カレンダーイヤー、設備搬入基準、IHS Markitデータより当社にて作成、18年以降は予測） Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 17
Slide 18: トピックス
トピックス ディスプレイ用フォトマスク描画装置 局所レーザーアニール装置 株式会社ブイ・イー・ティー Lumiotech株式会社 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 18
Slide 19: ディスプレイ用フォトマスク描画装置（1）
ディスプレイ用フォトマスク描画装置（1） 受注済み初号機(ﾌﾟﾛﾄﾀｲﾌﾟ)を今期に販売予定。超高精度描画、大型ﾏｽｸ対応、一貫提 案(ﾏｽｸ描画～検査･測定･修正)の３つで、ﾌｫﾄﾏｽｸ製造装置市場でのシェア拡大を目指 す。技術開発力の底上げも期待。 2018年度について ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ用ﾌｫﾄﾏｽｸ市場：前年比で10％程度の成長を予想。 中小型OLED用高精細ﾌｫﾄﾏｽｸ需要の拡大 G10.5用大型ﾌｫﾄﾏｽｸ需要の拡大 ﾌｫﾄﾏｽｸ製造装置市場：投資が継続される見込み。 主要な設備投資推計：5件～7件程度 計画中の設備投資推計：3件～5件程度 IHS Markitﾃﾞｰ
Slide 20: ディスプレイ用フォトマスク描画装置（2）
ディスプレイ用フォトマスク描画装置（2） ﾌﾟﾘﾝﾄ基板、ｼｬﾄﾞｳﾏｽｸ用のﾌｫﾄﾏｽｸ描画装置等を過去に手掛けた内外大手ﾒｰｶｰが挑戦。 ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲの急激な大型化に関連した課題解決が難しく多くが市場から退出。 ﾌｫﾄﾏｽｸの大型化と関連課題 環境変化 動的精密位置制御の追及 ﾏｽｸ描画時間 (温度/気圧/振動等) パーティクル (20時間超) (ｺﾝﾀﾐ/異物) マスク描画装置 ﾌｫﾄﾏｽｸの大型化 描画範囲 ﾏｽｸ重量増加 (約2m角) (ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲの大型化) (4K/8K/OLED等) ﾌｫﾄﾏｽｸ検査装置(Gemini) 位置制御分解能 CADﾃﾞｰﾀ変換 描画ﾊﾟﾀｰﾝ
Slide 21: ディスプレイ用フォトマスク描画装置（3）
ディスプレイ用フォトマスク描画装置（3） ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ製造における精度の基準となる装置。CADﾃﾞｰﾀ変換からﾏｽｸ描画が完了する までの様々な｢変化｣に対応。これまで培ったﾌｫﾄﾏｽｸ検査関連の技術など、ｿﾌﾄ~ﾊｰﾄﾞ まで広範な技術を結集。nm~mまで極限の精度で制御する製造装置に挑戦。 マスク描画装置 基本性能など ポイント G10.5用ﾌｫﾄﾏｽｸ対応 動的精密位置制御の追及 描画中に描画ﾍｯﾄﾞ位置を補正 最大描画エリア:1.8m×2.0m 熱膨張がｾﾞﾛの素材を採用 ステージ分解能:15nm 超高精度ｴｱｽﾗｲﾀﾞ (1nm＝百万分の1mm） CAD変換ｼｽﾃ
Slide 22: 局所レーザーアニール装置について
局所レーザーアニール装置について PLAS（Partial Laser Annealing Silicon）に不可欠の装置。2016年に1号試作機、 2017年に2号試作機を販売。量産機の早期受注を目指す。 Partial Laser Annealing System a-Siの60倍 Laser: Excimer Optics: MLA (Micro Lens Array) Object: Selected TFT Channel Area シリコンのレーザーアニールについて 局所レーザーアニールイメージ PLASの特長：高電子移動度（5～30 cm2/Vs）、屋外使用時の画質が安定的、 G
Slide 23: 株式会社ブイ・イー・ティー（1）
株式会社ブイ・イー・ティー（1） 最先端の蒸着ﾏｽｸ「ﾌｧｲﾝﾊｲﾌﾞﾘｯﾄﾞﾏｽｸ（FHM）」の製造と次世代縦型蒸着技術で、 OLEDの画質向上及び生産ｺｽﾄ削減に貢献。 OLED製造プロセス 材料 蒸着工程 部材 TFT工程 （TFT基板に有機EL材料を蒸着ﾏｽｸ越し 封止工程 ﾓｼﾞｭｰﾙ工程 受入 に蒸着する工程） 完成/出荷 気化し FHM た材料 蒸着源 TFT付ガラス基板 蒸着源 次世代縦型蒸着装置外観 蒸着装置真空ﾁｬﾝﾊﾞｰ内部 蒸着マスク(FHM) 拡大図 開口部 FHM OLED製造プロセスと蒸着ﾏｽｸ、蒸着装置について Copyright(C) 2018 V Techn
Slide 24: 株式会社ブイ・イー・ティー（2）
株式会社ブイ・イー・ティー（2） 山形県米沢市八幡原中核工業団地 山形県産業技術振興機構「有機エレクトロニクス 事業化実証施設」で事業を開始。設備投資額約50億円。 事業名 特長など 製品イメージ 特長 ①高精細な蒸着が可能。 ②複雑な作業が不要で扱い易い。 ③既存の蒸着装置で使用可。 FHM ④軽量、縦型蒸着に不可欠。 →OLEDの画質UP、ｺｽﾄﾀﾞｳﾝに貢献 今後について 2019年４月から商業生産開始予定。 G4.5Fｻｲｽﾞｻﾝﾌﾟﾙ FHM断面構造 特長 ①G6ｻｲｽﾞ基板に対応、最大従来比で4倍の生 産能力を目指す。 縦型 ②縦型蒸着装置に不可欠な蒸着ﾏｽｸ(FHM)は 蒸着装置
Slide 25: Lumiotec株式会社の子会社化について
Lumiotec株式会社の子会社化について 世界初の｢照明用有機 EL パネル専業会社｣として2008年に誕生したLumiotec社を4 月2日に100％出資の子会社に。当社グループのOLEDビジネスとの相乗効果を期待。 有機EL照明／ディスプレーの違い 有機EL照明イメージ Copyright 2016-2017 Lumiotec Inc. All Rights Reserved Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 25
Slide 26: 業績見通し
業績見通し Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 26
Slide 27: 2019年3月期 業績および配当の予想
2019年3月期 業績および配当の予想 案件の出入りを予想に反映も4期連続で売上および利益の最高額を更新する見込み。 営業利益は、ｺｽﾄ削減効果等を勘案し中計比で25億円上方修正、165億円に。配当に ついて、配当性向20%以上を目標としつつ、M&A資金確保、設備投資並びに研究開 発投資、経営基盤強化の為の内部留保確保等を勘案し決定。 2018年3月期実績 2019年3月期予想 YOY 金額 金額 構成比 構成比 （百万円） （百万円） 売上高 66,067 ー 82,000 ー 24.1％ 営業利益 12,545 19.0％ 16,500 20.1％ 31.5％ 経常利益 12,370 18
Slide 28: 2016年6月公表の中計と19年3月期見通しの差異分析
2016年6月公表の中計と19年3月期見通しの差異分析 プラス要因：前期からの延伸および16年中計発表時想定より工場新設が増加。 マイナス要因：新製品投入遅れ及び一部顧客の設備計画変更(工場建築遅れによる)。 130 ▲160 計画変更 による減少 40 ▲90 900 工場新設増 前期からの による増加 新製品の市場 820 延伸分に 投入遅れによ よる増加 る減少 中計 新19年3月期 19年3月期 売上見通し 売上見通し （単位：億円） Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 28
Slide 29: 2019年3月期 売上予想の内訳
2019年3月期 売上予想の内訳 一部案件を今期販売計画から翌期へシフト。新製品の売上貢献は来期以降を想定。 製造装置:中国内の大型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ工場向けの販売を計画。検査装置:中国を中心とし た海外の大型/中小型ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ工場向けの販売を計画。ｱﾌﾀｰｻｰﾋﾞｽ等:前年度と同水準 を想定。 2018年3月期 2019年3月期 グループ売上高 単位（億円） 420 374 360 244 42 40 製造装置 検査装置 アフターサービス Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 29
Slide 30: 今後の展開
今後の展開 中長期ビジョン 浙江芯晖設備技術有限公司 （Zhejiang Chip Sunshine Equipment Technology Co., Ltd.） Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 30
Slide 31: 中長期ビジョン
中長期ビジョン イノベーションで社会に貢献する世界有数の製造装置メーカーを目指し、現場力強 化、M&A、イノベーション創出の３つを一歩一歩確実に実施。将来的にはﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲ 製造装置事業に加え、半導体製造装置事業、部材事業(蒸着ﾏｽｸ等)で社会に貢献する 企業を目指す。 現場力 M&A ｲﾉﾍﾞｰｼｮﾝ グローバル 多様な人材 グループ売上高 人材の活用 多様な技術 新技術・新製品 単位（億円） の融合 820 ディスプレイ製造装置 660 半導体製造装置 ディスプレイ製造装置 ディスプレイ製造装置 部材事業 FY2018 FY2019 FY202X Copyright(C) 2018 V
Slide 32: 浙江芯晖設備技術有限公司について
浙江芯晖設備技術有限公司について Zhejiang Chip Sunshine Equipment Technology Co., Ltd. 中国の半導体市場と国内の半導体製造技術・事業の結合でｸﾞﾛｰﾊﾞﾙな半導体製造装置 ﾒｰｶｰを目指す｢ﾁｯﾌﾟｻﾝｼｬｲﾝ」を設立。 まず半導体ｳｪﾊ用研磨装置事業に着手。中長期的には他の有望な製造装置分野へ事業 を展開。 沿海部の主要都市に近い、嘉興地級市海寧市の経済開発区に、海寧市の出資を受け た現地のﾌｧﾝﾄﾞと合弁会社を設立。資本金は12百万USD(当社40％出資)。 赤枠内が合弁会社。建物面積 55,800 ㎡のうち 15,000 ㎡ を半導体
Slide 33: ご清聴ありがとうございました。
ご清聴ありがとうございました。 Copyright(C) 2018 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 33