Slide 1: 2023年3月期(第26期) 決算説明会資料
株式会社ブイ･テクノロジー 2023年3⽉期(第26期) 決 算 説 明 会 資 料 2023年5⽉15⽇ Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 1
Slide 2: 将来見通し等について
将来⾒通し等について ▶将来⾒通し 本資料に記載されている当社の計画、戦略、⾒通し及びその他の歴史的事実でないものは、 将来に関する⾒通しであり、これらは現在⼊⼿可能な期待、⾒積、予想に基づいています。 これらの期待、⾒積、予想は、経済情勢・市況の変化、競争環境の変化、顧客のある国の政 策変化、係争中及び将来の訴訟の結果など多くの潜在的リスク、不確実な要素、過程の影響 を受けますので、実際の業績は⾒通しから⼤きく異なる結果となる可能性があります。 従って、これら将来予想に関する記述に全⾯的に依拠することは差し控えて頂きますようお 願いいたします。また、当社は新しい情報、将来の出来事などに基づき
Slide 3: 連結業績サマリー
連結業績サマリー ▶ FPD装置事業環境の悪化より、前期⽐減収減益 ▶ 固定資産の減損処理から特別損失を計上 ‣ コロナ影響等から顧客との技術開発が当初計画に対し遅延 ‣ 会計基準に従い、蒸着マスク製造関係の固定資産に係る減損888百万円を計上 ▶ 売上変化･為替差益影響から、営業利益･経常利益は予想⽐プラス 2022年3⽉期 2023年3⽉期 実績 業績予想 ⾦額 構成⽐ (22年11⽉) 増減率 ⾦額 構成⽐ (百万円) 前期⽐ 業績予想⽐ 売上⾼ 51,418 100.0％ 44,000 43,146 100.0％ ▲16.1％ ▲1.9％ 営業利益 5,461 10.6.％ 700 9
Slide 4: セグメント別の売上高・営業利益の状況
セグメント別の売上⾼・営業利益の状況 ▶ 半導体・フォトマスク装置事業︓過去最⾼売上、新製品･⾃社新⼯場製造⽴上影響で⼀時的に費⽤増加 ▶ ＦＰＤ装置事業 ︓装置販売減とミックス悪化により利益減少 半導体・ （単位︓百万円） （単位︓百万円） FPD*2 フォトマスク*1 22年3⽉期 23年3⽉期 YoY 22年3⽉期 23年3⽉期 YoY 売上⾼ 8,639 9,262 ＋7.2％ 売上⾼ 42,457 33,167 ▲22.4％ 営業利益 554 254 営業利益 5,101 980 ▲54.2％ ▲80.8％ (セグメント内利益率) (6.4％) (2.7%) (セグメント内利益率)
Slide 5: 連結およびセグメント別の受注高・受注残の状況
連結およびセグメント別の受注⾼・受注残の状況 （単位︓百万円） ▶ 半導体・フォトマスク︓ウェハ検査関連⼀服、フォトマスク関連等の引合多数 ▶ ＦＰＤ ︓Q4に⼤⼝受注が⼊り回復 半導体・ 連結 FPD フォトマスク 22年Q4 23年Q4 YoY 22年Q4 23年Q4 YoY 22年Q4 23年Q4 YoY 受注(３カ⽉) 10,238 14,604 ＋42.6％ 受注(3カ⽉) 4,202 2,510 ▲40.3％ 受注(3カ⽉) 5,779 11,868 ＋105.4％ 受注残 42,721 36,647 ▲14.2％ 受注残 8,539 14,742 ＋72.6％ 受注残 34,17
Slide 6: （参考）地域別連結売上高
（参考）地域別連結売上⾼ （単位︓百万円） ▶ 中国向け⽐率は前年同期⽐17ポイント減の62％に ▶ 半導体・フォトマスク事業が伸⻑し、台湾・⽇本での売上が増加 55,000 22年3⽉期 23年3⽉期 51,418 50,000 45,000 43,146 40,496 40,000 35,000 30,000 26,759 25,000 20,000 15,000 10,000 6,568 6,934 5,305 3,614 5,000 2,003 2,885 0 中国 台湾 ⽇本 韓国・その他 合計 Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All
Slide 7: 販売費及び一般管理費
販売費及び⼀般管理費 （単位︓百万円） 10,024 9,960 22年3⽉期 23年3⽉期 9,000 6,000 4,009 3,404 3,000 2,669 2,303 2,243 2,289 1,075 999 808 185 0 ⼈件費 発送費 研究開発費 製品保証関連費⽤ その他 合計 Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 7
Slide 8: （参考）四半期毎連結売上高・利益の推移
（参考）四半期毎連結売上⾼・利益の推移 25,000 50.0% （百万円） （利益率） 2020 2021年3⽉期 2022年3⽉期 23年3⽉期 20,000 40.0% 15,000 30.0% 10,000 20.0% 5,000 10.0% 0 0.0% 20 Q4 21 Q1 21 Q2 21 Q3 21 Q4 22 Q1 22 Q2 22 Q3 22 Q4 23 Q1 23 Q2 23 Q3 23 Q4 売上⾼(百万円） 3,607 10,297 17,923 13,278 13,688 13,094 14,033 9,690 14,601 7,795 11,494 10,603
Slide 9: 連結貸借対照表の推移
連結貸借対照表の推移 90,000 負債・純資産 90,000 総資産 （単位︓百万円） （単位︓百万円） 72,601 71,387 72,601 71,387 756 917 9,516 8,765 13,548 60,000 4,245 2,239 60,000 18,286 11,405 10,089 23,756 18,298 19,537 22,408 30,000 30,000 34,540 33,884 27,898 26,729 0 0 22年3⽉期 23年3⽉期Q4 22年3⽉期 23年3⽉期Q4 純資産 その他流動負債 現⾦及び預⾦ 受取⼿形及び売掛⾦ 棚卸資産 その他流
Slide 10: 連結キャッシュフロー
連結キャッシュフロー ▶ 営業CF︓純利益、仕⼊債務の減少及び売上債権の増加により▲3,284百万円 ▶ 投資CF︓有形固定資産の取得、定期預⾦の預⼊により▲1,195百万円 ▶ 財務CF︓⻑期借⼊⾦の増加等により2,780百万円 ⾦額単位︓百万円 22年3⽉期 23年3⽉期 税⾦調整前純利益 6,450 1,571 売上債権（増加▲） ▲364 ▲2,255 棚卸資産（増加▲） 5,139 1,814 営業活動による 仕⼊債務（減少▲） 542 ▲4,443 キャッシュフロー 前受⾦（減少▲） ▲7,532 ▲468 その他 ▲2,827 497 Total 1,408 ▲3,284 投資活
Slide 11: 通期業績及び配当の予想
｜通期業績及び配当の予想 Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 11
Slide 12: 通期業績及び配当予想
通期業績及び配当予想 ▶ 売 上︓半導体・フォトマスク装置事業が伸⻑も、ＦＰＤが⼤幅に落込み減収 ‣ 2023年のＦＰＤ製造装置市場は、2012年を下回り過去最低を⾒込む* ▶ 営業利益︓前期⽐微増、ＦＰＤ装置事業の売上減等の影響 ‣ コスト削減、差別化、及び蒸着マスク等OLED関連事業の早期収益化等 ▶ 配 当︓業績状況から、年配当60円を計画 2023年3⽉期実績 2024年3⽉期 業績および配当の予想 (百万円) ⾦額 構成⽐ ⾦額 構成⽐ 前期⽐ 売上⾼ 43,146 100.0％ 40,000 100.0％ ▲7.3％ 営業利益 986 2.3％ 1,000 2.5.％ ＋1.4％
Slide 13: FPD関連事業の拡大について
事業の拡⼤について ① 半導体関連事業の発展促進 ② 収益基盤としてのFPD関連事業の収益⼒強化 ③ 社会課題解決型ビジネスへの挑戦(農業、SiC、他) 売上⾼ 技術イノベーション × M&A,業務提携,他 半導体関連 22％ FPD関連 新分野 将来 22年 23年 Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved.
Slide 14: トピックス
｜トピックス Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 14
Slide 15: FPD装置事業 〜OLED関連〜
ＦＰＤ装置事業 〜ＯＬＥＤ関連〜 ▶ 電鋳Mask（FMM）の製造開始 ‣ VR/AR⽤途 ‣ OLED on Silicon(OLEDoS)等、超⾼精細⼩型ディスプレイ製造ライン向け新製品 ▶ Fine Hybrid Mask（FHM）の開発再加速 ‣ 顧客とFace to Faceの開発作業/国内外顧客からの引合い 5000ppi超の⾼精細画素パターンの成膜に成功 外観写真 測定データ Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 15
Slide 16: 半導体・フォトマスク装置事業 〜半導体製造装置〜
半導体・フォトマスク装置事業 〜半導体製造装置〜 ▶ ジャパンクリエイト社を⼦会社化 ‣ シリコンウェハ製造⼯程、他、半導体製造プロセス向け製品提案⼒を拡充 (参考)シリコンウェハ製造⼯程におけるグループ会社の製品展開 粗研磨 洗浄 洗浄 ⻘⾊部 当社グループの製品の適⽤が可能な⼯程 Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 16
Slide 17: 半導体・フォトマスク装置事業 〜フォトマスク測定装置〜
半導体・フォトマスク装置事業 〜フォトマスク測定装置〜 ▶ 2022年に半導体⽤フォトマスク対応の新製品、PMARSを発表 装置の進化と⽤途の広がり FPD フォトマスク パターン Mercury FPD 従来⽐10倍の (~G10.5/LCD⽤) ⾼精度化を実現 半導体 技術進化 Mercury-SHR Mercury-SHR (G6/FPD⽤) (G10/FPD⽤) ･ステージ/制御 ･座標補正/他 技術進化 ウェハ ･ステージ/制御 測定 ･座標補正/他 ･画像処理 PMARS (6~8“/半導体) Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All
Slide 18: 半導体・フォトマスク装置事業 〜フォトマスク修正装置〜
半導体・フォトマスク装置事業 〜フォトマスク修正装置〜 ▶ 半導体フォトマスク⽤⽋陥修正装置 Pictor, Draco ‣ 2013年に事業譲受によりフォトマスク⽤修正装置ビジネスを開始、技術蓄積開始 ‣ 2021年よりFIB(収束イオンビーム)を⽤いた修正装置を販売開始 装置の進化と⽤途の広がり FPD フォトマスク L/S＝500nm L/S＝300nm 加⼯画像 Taulas (~G10.5) 技術進化 ･レーザー Sculptor ･光学系 Pictor Laser CVD⽋陥修正(FPD) Laser CVD⽋陥修正 エッジが粗い (半導体) 技術進化 ･ステージ/制御 ･局所真空
Slide 19: 半導体・フォトマスク装置事業 〜プリント基板用装置〜
半導体・フォトマスク装置事業 〜プリント基板⽤装置〜 ▶ プリント基板製造装置分野に本格参⼊ ▶ JPCA Show2023に出展、DI(Direct Imaging)装置を展⽰予定 直描技術の基盤(NSS/VT) × 他社協業で フルラインナップ戦略を推進 (詳しくは会場にて) Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 19
Slide 20: アグリ事業部を新設、事業を本格的に開始
アグリ事業部を新設、事業を本格的に開始 ▶ 中国、⽇本（千葉、御殿場、横須賀）に⽣産拠点 千葉 御殿場 横須賀(YRPイノベーションセンター内) Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 20
Slide 21: お問合せ先
お問合せ先 社⻑室IRグループ vtj-mng-pre@vtec.co.jp Copyright(C) 2023 V Technology Co., Ltd. All Right reserved. 21