Samco, Inc. · TSE:6387
Samco — Q3 FY2026 Earnings Presentation
53 slides from Samco's earnings presentation, Jun 12, 2026
Slide 1: 2026年7月期 第3四半期 決算概要
2026年7月期 第3四半期 決算概要 （2025年8月～2026年4月） 決算概要 事業環境および業績予想 サムコ株式会社 東証プライム市場 証券コード：6387 2026年6月12日（金） https://www.samco.co.jp/ir/ 将来の見通しに関する記述について 本資料の将来の見通しに関する記述は、作成時点で入手可能な情報に基づいた当社の予測です。 既知または未知のリスク、不確実性、その他の要因によって、実際の業績が大きく異なる可能性があります。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上
Slide 2: 目次
目次 1. 2026年7月期 第3四半期 決算概要 2. 2026年7月期 業績予想 3. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 2
Slide 3: 目次
目次 1. 2026年7月期 第3四半期 決算概要 2. 2026年7月期 業績予想 3. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 3
Slide 4: 26/7月期 第3四半期 業績ハイライト
26/7月期 第3四半期 業績ハイライト 売上高 営業利益 経常利益 74.1 8,000 6,000 5,759 億円 6,241 7,414 18.6 2,000 1,500 1,291 億円 1,393 1,863 19.6 2,500 2,000 1,384 億円 1,370 1,965 前年同期比 +18.8% 4,000 前年同期比 +33.7 % 1,000 前年同期比 +43.4% 1,500 1,000 2,000 500 500 5期連続増収・過去最高 0 2期連続増収・過去最高 0 過去最高 0 24/7月期 25/7月期 26/7月期 24/7月期 25/7月期 26/
Slide 5: 26/7月期 業績予想及び配当予想の修正（増配）
26/7月期 業績予想及び配当予想の修正（増配） （百万円） 26/7月期(前回予想) 26/7月期(今回予想) 増減率 売上高 10,200 10,785 +5.7% 売上総利益 4,990 5,282 +5.9% 売上高総利益率 49.0% 49.0% - 営業利益 2,460 2,631 +7.0% 営業利益率 24.2% 24.4% - 経常利益 2,440 2,722 +11.6% 当期純利益 1,720 1,919 +11.6% （円） 年間配当 60 75 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申
Slide 6: 26/7月期 第3四半期 決算概要
26/7月期 第3四半期 決算概要 （百万円） 25/7月期 3Q 26/7月期 3Q 前年同期比 売上高 6,241 7,414 +18.8% 売上総利益 3,067 3,652 +19.1% 売上高総利益率 49.1% 49.3% - 営業利益 1,393 1,863 +33.7% 営業利益率 22.3% 25.1% - 経常利益 1,370 1,965 +43.4% 四半期純利益 968 1,376 +42.1% 受注高 6,576 12,854 +95.5% 受注残高 5,697 10,563 +85.4% 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送
Slide 7: 受注高と受注残高推移
受注高と受注残高推移 （百万円） 11,500 11,000 10,563 10,500 10,000 受注高 9,500 9,000 受注残高 8,500 7,961 8,000 7,500 6,705 7,000 6,211 6,500 6,019 5,704 5,828 5,532 5,697 6,000 5,418 5,393 5,323 5,361 5,500 5,027 4,976 5,124 5,000 4,451 4,500 3,791 4,139 4,000 3,500 3,000 2,500 5,429 2,000 4,315 1,500 2,709 2,419 3,108
Slide 8: 26/7月期 第3四半期 装置別売上高
26/7月期 第3四半期 装置別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス CVD装置 CVD装置 16% 8000 百万 13% 部品・メンテナンス 19% 16% 7000 洗浄装置 洗浄装置 7% CVD装置 7% エッチング装置 6000 64% エッチング装置 58% 5000 25/7月期 26/7月期 （百万円） 25/7月期 3Q 26/7月期 3Q 4000 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 エッチング装置 3000 CVD装置 1,198 19.2% 947 12.8% △21.0% 2000 エッチング装置 3,649 58.5% 4,755 64.
Slide 9: 26/7月期 第3四半期 用途別売上高
26/7月期 第3四半期 用途別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス 化合物半導体 16% 8000 百万 部品・メンテナンス 26% その他 化合物半導体 16% 7% 34% その他 7000 ヘルスケア 16% 0% ヘルスケア 6000 化合物半導体 2% シリコン半導体 電子部品 シリコン半導体 電子部品 23% 36% 7% 17% 5000 25/7月期 26/7月期 （百万円） シリコン半導体 25/7月期 3Q 26/7月期 3Q 4000 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 3000 電子部品 化合物半導体分野 1,626 26.1% 2,487
Slide 10: 26/7月期 第3四半期 目的別売上高
26/7月期 第3四半期 目的別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス 8000 16% 百万 部品・メンテナンス 研究開発用 16% 34% 7000 生産用 研究開発用 50% 6000 生産用 52% 32% 研究開発用 5000 25/7月期 26/7月期 （百万円） 4000 25/7月期 3Q 26/7月期 3Q 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 3000 生産用 研究開発用 3,249 52.1% 2,551 34.4% △21.5% 2000 生産用 2,018 32.3% 3,691 49.8% +82.8% 1000 部品・メンテナンス 部品・メン
Slide 11: 26/7月期 第3四半期 地域別売上高
26/7月期 第3四半期 地域別売上高 欧州 その他 売上高の推移 構成比の推移 その他 3% 1% 欧州 百万 8000 0% 北米 3% 9% 北米 7000 8% 日本 47% 6000 アジア アジア 23% 日本 40% 66% 5000 日本 25/7月期 26/7月期 （百万円） 25/7月期 3Q 26/7月期 3Q 4000 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 3000 日本 4,126 66.1% 3,467 46.8% △16.0% アジア 1,443 23.1% 2,939 39.6% +103.6% 2000 アジア 北米 474 7.6% 709 9.6%
Slide 12: 目次
目次 1. 2026年7月期 第3四半期 決算概要 2. 2026年7月期 業績予想 3. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 12
Slide 13: 26/7月期 業績予想
26/7月期 業績予想 （百万円） 26/7月期 25/7月期 前年同期比 3Q実績 4Q予想 通期予想 売上高 9,342 7,414 3,371 10,785 +15.4% 売上総利益 4,668 3,652 1,630 5,282 +13.2% 売上高総利益率 50.0% 49.3% 48.4% 49.0% - 営業利益 2,342 1,863 768 2,631 +12.3% 営業利益率 25.1% 25.1% 22.8% 24.4% - 経常利益 2,373 1,965 757 2,722 +14.7% 当期純利益 1,697 1,376 543 1,919 +13.1% 本資料の著
Slide 14: 目次
目次 1. 2026年7月期 第3四半期 決算概要 2. 2026年7月期 業績予想 3. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 14
Slide 15: 参考資料
参考資料 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 15
Slide 16: 会社概要
会社概要 商 号 サムコ株式会社 Samco Inc. 代表取締役会長 兼 CEO 辻 理（つじ おさむ） 代 表 者 代表取締役社長 兼 COO 川邊 史（かわべ つかさ） 設 立 1979年（昭和54年）9月1日 本社所在地 〒612-8443 京都市伏見区竹田藁屋町36 左：辻 理、右：川邊 史 事 業 内 容 半導体等電子部品製造装置の製造及び販売 売 上 高 93.4億（2025年7月期） 従 業 員 191名 （2025年7月） 証券コード 6387 東京証券取引所 プライム市場 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断
Slide 17: 沿革
沿革 サムコインターナショナル研究所 設立 半導体プロセス用大型CVD装置の開発、販売を開始 化合物半導体製造用MOCVD装置の開発、販売を開始 国産初 東京都品川区に東京出張所（現東日本営業部）を開設 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 17
Slide 18: 沿革
沿革 液体ソースによる高速成膜用CVD装置の開発、販売を開始 小型、汎用プラズマエッチング装置RIE-10NR の開発、販売を開始 キリンビール株式会社と共同で、 プラスチックボトルに DLC膜を形成する技術を開発 700 台 の販売実績 日本証券業協会に株式を店頭上場 株式会社サムコインターナショナル研究所から サムコ 株式会社へ社名を変更 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 18
Slide 19: 沿革
沿革 東京証券取引所市場第二部へ上場市場を変更 東京証券取引所市場第一部銘柄に指定 原子層堆積（ALD）装置AL-1の開発・販売を開始 先端 技術研究棟 竣工 Aqua Plasma®洗浄装置AQ-2000の開発、販売を開始 クラスターツールシステム「クラスターH 」の販売を開始 プライム市場へ移行 先端技術研究棟を竣工 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 19
Slide 20: 事業拠点（日本国内）
日本国内拠点 京都 本社 研究開発センター 第二研究開発棟 先端技術開発棟 つくば営業所 製品サービスセンター 生産技術研究棟 第二生産技術研究棟 東日本営業部 東海支店 事業拠点｜サムコ株式会社 (samco.co.jp) 本社周辺のアクセスマップやGoogle mapのご案内はこちら 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 20
Slide 21: 海外営業・サービス拠点
海外営業・サービス拠点（11拠点） リヒテンシュタイン・ ニュージャージー州 Samco-ucp ltd. 北京事務所 イーストコーストオフィス 韓国事務所 上海事務所 台湾・新竹事務所および カリフォルニア州（シリコンバレー） 台南サービスオフィス オプトフィルムス研究所 インド・ ベンガル―ルオフィス シンガポール支店 マレーシア事務所 事業拠点｜サムコ株式会社 (samco.co.jp) 海外拠点の住所やGoogle mapのご案内はこちら 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 21
Slide 22: Mission
はくまく 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 経営理念 • 企業の永続的な発展を追求し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻 く利害関係者とともに成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に 貢献する。 Mission 経営方針 1. 社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。 2. 直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。 3. 事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、 取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送
Slide 23: Vision
グローバル中堅企業 1. 世界中で自由にビジネスを展開し、自社の独自技術を活かし、質の高い製品と サービスを提供し続ける。 2. コア技術（薄膜技術）をベースに、参入障壁の高い領域において、特定の製品 で圧倒的シェアを有することで、自ら製品に値付けが出来る力を持ち、高い収 益率を維持し続ける。 Vision 3. 売上の規模を求めるだけでなく、継続的に利益を稼げる市場に特化、集中する。 4. 組織体制は少数精鋭のプロ集団である。 5. 適正な税金を納め、国家や地域の発展にも貢献する。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わな
Slide 24: 製品ラインナップ
製品ラインナップ ◼CVD (Chemical Vapor Deposition) 装置 • ALD (Atomic Layer Deposition) 装置 • プラズマCVD装置 • 液体ソースCVD®装置 ◼ドライエッチング装置 • ALE (Atomic Layer Etching) 装置 • ICP (Inductively Coupled Plasma) エッチング装置 • シリコン深掘り装置 • RIE (Reactive Ion Etching) 装置 • XeF2ドライエッチング装置 ◼ドライ洗浄装置 • Aqua Plasma® クリーナー • プラズマクリーナー • UV
Slide 25: 品目別売上高 CVD装置
品目別売上高 CVD装置 装置ラインナップ 概 要 ・ALD (Atomic Layer Deposition) 装置 反応性の気体を基板上に供給し、化学反応によって薄膜を形成する装 ・プラズマCVD装置 置で、一般に半導体、電子部品製造のための半導体膜、絶縁膜、金属膜 ・液体ソースCVD®装置 などを形成するために使われます。当社が開発したLS（Liquid Source）- CVD装置では、引火爆発性のあるガスを使用せず安全性に優れた液体原 料を用いて、低温で均一性に優れた薄膜を高速で形成することが可能で 19.3% あります。 2015年12月から販売を開始した原子層堆積装置（ALD＝A
Slide 26: 品目別売上高 エッチング装置
品目別売上高 エッチング装置 装置ラインナップ 概 要 ・ICP (Inductively Coupled Plasma) エッチング装置 各種半導体基板上の半導体薄膜、絶縁膜をはじめ微細加工が ・シリコン深掘り装置 ・RIE (Reactive Ion Etching) 装置 必要な材料をドライ加工する装置で、反応性の気体をプラズマ ・XeF2ドライエッチング装置 分解し、目的物と反応させて蝕刻いたします。当社独自のトル ネードICP（Inductively Coupled Plasma＝高密度プラズマ）を利 用するエッチング装置では、高密度プラズマを安定して生成し、 高速で高精度の微細加工
Slide 27: 品目別売上高 洗浄装置
品目別売上高 洗浄装置 装置ラインナップ 概 要 ・Aqua Plasma® クリーナー 実装基板や各種半導体基板などを溶液を用いずドライ洗浄する装置で、 ・プラズマクリーナー 減圧下で反応性の気体をプラズマ放電させて処理する装置や紫外線と高 ・UVオゾンクリーナー 濃度オゾンの併用で処理する装置などがあります。当社のドライ洗浄装 置は、ウエット洗浄では難しい超精密洗浄を高効率で行うことが可能で あります。 2016年9月より販売を開始した水蒸気（H2O）を用いたプラズマ処理装 7.3% 置であるAqua Plasma（アクアプラズマ）洗浄装置は、金属酸化膜の還元、 25/7期 有機汚れの洗浄
Slide 28: 品目別売上高 部品・メンテナンス
品目別売上高 部品・メンテナンス 主な内訳 概 要 ・部品、消耗品 ・修理、改造 当社装置の納品後のアフターサービスに係る売上を、部品・メンテナンスの売上高として計 ・移設、作業 上しております。交換用の部品や消耗品をはじめ、装置の修理や改造、また装置の移設やそれ ・メンテナンス に伴う作業費、メンテナンス費用等があります。 14.5% 第46期有価証券報告書（2025.10.20提出）より 25/7期 売上高構成比 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 28
Slide 29: 用途別売上高区分
用途別売上高区分 用 途 概 要 窒化ガリウム（GaN）、ガリウムヒ素（GaAs）、インジウムリン（InP）、炭化シリ コン（SiC）などの化合物を材料に用いた半導体デバイスの加工用途です。化合物半 化合物半導体分野 導体はLEDや半導体レーザーといった光デバイス、電力の制御や増幅に使われるパ ワーデバイスや高速通信を実現するHEMT（High Electron Mobility Transistor）など の高周波デバイスに用いられます。 シリコンウェハーの欠陥解析及びシリコン半導体、シリコンフォトニクスに関する加 シリコン半導体分野 工用途です。 半導体を除く電子部品の加工用途です 。主に
Slide 30: 応用分野 Applications
応用分野 ｜ Applications 最先端技術で、未来の当たり前を創る 光電融合・ 先端パッケージング 光デバイス データ社会の限界を突破する 半導体の真価を引き出す実装技術 次世代 量子デバイス・ パワーデバイス 2次元材料 クリーンなエネルギー循環を支える 物理の限界に挑むナノ制御 電子部品 ライフサイエンス・ （高周波フィルタ・MEMS） ヘルスケア つながる日常を、より高度に テクノロジーで、健やかな暮らしへ 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 30
Slide 31: 応用分野：光電融合・光デバイス
応用分野 ｜ Applications 光電融合・ 光デバイス データ社会の限界を突破する AIコンピューティングとデータセンターの電力課題を解決する「光電融合」 。 私たちは、InP（リン化インジウム）やGaAs（ヒ化ガリウム）を用いた端面 発光レーザー（EEL）や面発光レーザー（VCSEL）といった光デバイス製造に おいて、長年培った知見を提供し、次世代ネットワークの高速化・低消費電 力化を加速させています。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 31
Slide 32: 応用分野：次世代パワーデバイス
応用分野 ｜ Applications 次世代 パワーデバイス クリーンなエネルギー循環を支える 脱炭素社会の実現に向け、電気自動車（EV）や再生可能エネルギーの効率を 高める次世代パワーデバイス。GaN（窒化ガリウム）やSiC（炭化ケイ素）に 加え、Ga2O3（酸化ガリウム）やダイヤモンドなどの次世代材料に対応する ALD（原子層堆積）やALE（原子層エッチング）技術を通じて、エネルギーの 未来を切り拓きます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 32
Slide 33: 応用分野：電子部品
応用分野 ｜ Applications 電子部品 （高周波フィルタ・MEMS） つながる日常を、より高度に スマートフォンに欠かせない高周波フィルタ（BAW/SAW）やスマート社会の 「目」となるMEMSセンサー。圧電材料の高精度エッチングやBosch Process による高速シリコンディープエッチング技術により、デバイスの小型化と高 性能化を両立させ、より便利で安全な社会づくりに貢献しています。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 33
Slide 34: 応用分野：先端パッケージング
応用分野 ｜ Applications 先端パッケージング 半導体の真価を引き出す実装技術 チップレット構造や3D実装など、半導体のさらなる進化を支える後工程。 Aqua Plasma® による還元性プラズマ処理やウエハ接合前の表面改質、 Bosch Processによる高速シリコンディープエッチングなどを通じて、複雑化する パッケージングプロセスにおける歩留まりと信頼性の向上に貢献します。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 34
Slide 35: 応用分野：量子デバイス・2次元材料
応用分野 ｜ Applications 量子デバイス・ 2次元材料 物理の限界に挑むナノ制御 量子コンピュータの実現に向けた超伝導量子ビットや、グラフェンをはじ めとする2次元材料。ナノレベルでの制御性が求められるこれらの領域に、 ALD（原子層堆積）やALE（原子層エッチング）などの先端技術で応え、 未知の可能性を秘めたデバイス開発を支えます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 35
Slide 36: 応用分野：ライフサイエンス・ヘルスケア
応用分野 ｜ Applications ライフサイエンス・ ヘルスケア テクノロジーで、健やかな暮らしへ 独自の薄膜技術は、マイクロ流路チップの接合やバイオセンサーの開発など、 ライフサイエンス・ヘルスケア分野にも広がっています。迅速な診断や高度 な分析を可能にするデバイスづくりを通じて人々の健康と豊かな生活に寄与 していきます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 36
Slide 37: 事業領域 化合物半導体の例
事業領域 化合物半導体の例 化合物半導体は、複数の異なる元素を組み合わせて作ることで、シリコンのような単元素の半導体では 実現できない特性を得ることができます。 高速で動作する、高い耐熱性、低消費電力、発光するなどの優れた特性を持っており、スマートフォン の高周波デバイスやLD、LED、次世代パワーデバイスなどの材料として利用されています。 デバイスの例 材料の例 最終製品・用途の例 スマートフォン顔認証システム、自動車の自動運転システム、 LD（半導体レーザー） GaAs、InGaAsP、InP 無線基地局・衛星、光通信 LED、マイクロLED GaN、AlInGaP、GaP 液晶ディスプレ
Slide 38: 地域別売上高区分
地域別売上高区分 当社では、当社の製品が使用される地域（国）によって、売上高を以下の地域に区分しております。 地 域 対象となる国 日 本 日本国内 アジア 台湾、中国、韓国、シンガポール、マレーシア、タイ、ベトナム、フィリピン、インド 他 北 米 米国、カナダ、メキシコ ブルガリア、ドイツ、イギリス、フィンランド、ポルトガル、スペイン、イタリア、トルコ、ス 欧 州 ウェーデン 他 その他 オーストラリア、エジプト 他 当社 第45期有価証券報告書（2024.10.22提出）より 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないよ
Slide 39: 株式の状況（2026年1月末時点）
株式の状況（2026年1月末時点） ・発行可能株式総数 14,400,000株 所有者別株式分布状況（株式数ベース） ・発行済株式の総数 8,042,881株 ・株主数 7,755名 ■個人・その他 3,279,005株 (40.8%) 持株比率 ■その他の法人 1,995,692株 (24.8%) 株主名 持株数（株） （％） ■金融機関 2,101,600株 (26.1%) 一般財団法人サムコ科学技術振興財団 1,000,000 12.4 ■金融商品取引業者 130,920株 (1.6%) 日本マスタートラスト信託銀行株式会社 916,100 11.4 ■外国法人等 535,664株 (6
Slide 40: 主要数値の変遷
主要数値の変遷 21/7月期 22/7月期 23/7月期 24/7月期 25/7月期 売上高 （百万円） 5,746 6,401 7,830 8,203 9,342 営業利益 （百万円） 989 1,371 1,858 2,017 2,342 営業利益率 （%） 17.2 21.4 23.7 24.6 25.1 経常利益 （百万円） 1,044 1,481 1,927 2,088 2,373 当期純利益 （百万円） 755 1,052 1,366 1,471 1,697 総資産 （百万円） 12,069 13,379 14,795 16,116 18,205 自己資本 （百万円） 9,410
Slide 41: ESG・サステナビリティ
ESG・サステナビリティ 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 41
Slide 42: 持続可能な社会の実現に向けて サムコの取り組み
持続可能な社会の実現に向けて サムコの取り組み 経営理念 ～薄膜技術で世界の産業科学に貢献する～ ≪気候変動・脱炭素への取り組み≫ 当社が重点的に取り組むSDGs ・TCFD提言に基づいた情報開示。ESG委員会の活動による気候変動への対応状況把握、対策。 E ・環境方針（2006年制定）に沿った取り組みを実施。 ≪環境配慮型製品≫ 環境 ・省エネ・脱炭素を支えるLED、レーザー、次世代パワーデバイスの製造などを支える装置メーカー。 ・コア技術である最先端の“薄膜技術”をベースに世界中の製造現場や研究者へ装置を提供。 ・主な取り組みテーマ ①製品容積の減少、②消費エネルギーの削減、③会社消費電力
Slide 43: サステナビリティに関する取り組み
サステナビリティに関する取り組み 取り組みテーマ 概 要 製品容積の減少 半導体製造装置の製造現場では、多大な電力を要するクリーンルームでの効率的な装置配置が不可 欠です。そのためには、フットプリントの削減が重要なポイントとなります。更に小さなサイズの 装置とすることで納品時における移送コストの削減を行うことができます。 消費エネルギーの削減 より少ない電力消費で当社装置を稼働できるよう省電力が可能となる部品の選択や構成の見直しな どを恒常的に行ってまいります。 会社消費電力量の削減 当社業務活動における電力消費、温室効果ガスの排出量削減を目指した取り組みを行ってまいりま す。 グリーン調達
Slide 44: TCFD対応
TCFD対応 気候関連財務情報開示タスクフォース（TCFD） G20財務大臣・中央銀行総裁会議の要請を受け、金融安定理事会（FSB）により2015年12月に設立された「Task Force on Climate-related Financial Disclosures」の略称。 「ESG委員会」より、ガバナンス、戦略、リスク管理、指標と目標について当社ホームページ上で開示。 ESG委員会 気候変動に係るリスク及び機会、自社の事業活動や収益に与える影響についての データ収集と分析を行うため、代表取締役社長を委員長とする「ESG委員会」設置。 ⇒活動内容を取締役会に年1回以上報告 ⇒財務への影響
Slide 45: 省エネ、脱炭素社会実現を支えるサムコの技術
省エネ、脱炭素社会実現を支えるサムコの技術 サムコの“薄膜技術”は省エネ・脱炭素を支えるLED、 次世代パワーデバイスなどを支えています。 当社のコア技術である最先端の“薄膜技術”をベース に、SDGsに関連する環境・社会・ ガバナンスの視点から研究開発、人材育成に注力。 最先端の製造装置を世界中の製造現場や研究者へ提 供し、省エネ、脱炭素社会の実現に 貢献していきます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 45
Slide 46: サムコとSDGsの関わり
サムコとSDGsの関わり ・当社の主な事業領域である半導体・電子部品製造装置事業は、SDGsの目標を達成するためには欠かせない 技術です。 ・SDGsの17の目標では、経済、産業、社会等の課題を取り扱っていますが、当社では、創業以来、 「企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と 共に成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」という経営理念を掲げて、 社会への貢献に重きを置いてきました。 事業との関連性が高い以下の項目について、重点的に取り組んでまいります。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、
Slide 47: サムコのSDGsの取り組み例
サムコのSDGsの取り組み例 ・マイクロ流体チップ、医療用ドライ滅菌装置の製造に当社アクアプラズマ技術の寄与を目指す。 ・深紫外LED空気清浄機（コロナウィルス不活性化）製造に当社装置が寄与。 ・医療機器、エコーヘッドセンサーの製造に当社装置が寄与。 ・日本赤十字社への寄付。（ウクライナ人道危機救援金、能登半島地震災害義援金、トンガ大津波支援等） ・国内外の大学（ODA案件を含む）・研究機関等における医療分野や科学分野の研究のために、幅広く当社装置を提供。 ・サムコ科学技術振興財団を通じ、基礎・応用研究に携わる若手研究者を支援。 ・京都工芸繊維大学にサムコ辻理寄附講座「先端材料科学講座」を開講
Slide 48: サムコのSDGsの取り組み例
サムコのSDGsの取り組み例 産業と技術革新の基盤造りのため、以下の用途等に装置を提供 ・5G関連の高周波フィルター、高周波デバイスの製造やデータセンターなどVCSEL（面発光レーザー）を含む 通信用LD（レーザー）用装置の製造。 ・自動運転用のセンシング技術（LiDAR）、各種センサーや宇宙衛星の探索用センサー機器の製造。 ・有機EL、マイクロLEDの製造。 ・超伝導デバイス、量子デバイスの研究開発用途。 ・人の健康や環境を守るために当社での製造過程、製品について適正な管理を実現する。 ・環境に調和するプロセス技術の開発と、製造から廃棄までを考慮した環境負荷軽減型の製品開発に努める。 ・省エ
Slide 49: サムコの人材育成方針
サムコの人材育成方針 １．仕事は楽しく、面白くあるべきである。一所懸命に楽しく仕事をして、かつ面白い。そして良い結果がついてくる。 そんな楽しく、面白い日々が日常である会社とする。 ２．“学ぶ”を忘れない。学ぶことを常に念頭に置き、長きに渡り己を磨くことで自らの価値を高めてほしい。 特に若手社員は30代までに能力向上に勤しむ癖をつけなければならない。 ３．リスキリングにより第一線で活躍できるスキルを身に付けることにより、70歳まで働ける企業としていく。シニア社員が 十分社会貢献できるよう再教育することを会社の使命と考える。 ４ ．外国籍社員の採用を増やし、若手社員の海外経験を増やすことによりグ
Slide 50: 資本コストや原価を意識した経営の実現に向けた対応
資本コストや原価を意識した経営の実現に向けた対応 20.0% 当社は、中長期的な経営指標として「装置製造原価率46％以下」「売上高営業利益 率25％以上」「海外売上高比率50％以上」を掲げ、収益性と成長性を重視した経営の 18.0% 実現に向け対応しております。 16.0% 14.0% 12.9% 13.0% 当社の2024年7月期（第45期）のROEは12.6%であり、第46期は13.0%となりました。 12.6% 12.2% 12.0% 10.8% 2026年7月期（第47期）の計画は12.2%です。また、「資本コスト」については、そ の概念や計算方法について統一的な基準が示されておらず、
Slide 51: 株主・投資家との対話状況
株主・投資家との対話状況 基本方針 当社は、持続的な企業価値の向上のために、株主との間で建設的な対話を行うこととしております。株主との対話につきまして は、代表取締役社長 川邊 史の管掌の下、専任部署である経営企画室（2025年7月現在3名）を中心に、経理部、総務部、社長室など の関連部署と密接に連携しつつ、IR活動を行っています。また、対話に際しては内部規定に基づき未公表のインサイダー情報の管 理を徹底しております。 対話を行った株主の概要 対象期間：2024年8月1日から2025年7月31日までの1年間 【機関投資家・アナリスト向け】 ・1 on 1 ミーティング 103件 ・機関投資家・
Slide 52: IRカレンダー
IRカレンダー 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 52
Slide 53: お問い合わせ
お問い合わせ 経営企画室 E-mail: kikaku@samco.co.jp URL : www.samco.co.jp A Better Tomorrow Driven by Thin Film Technology 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 53