Slide 1: 2026年7月期 決算説明会
2026年7月期 決算説明会（2025年8月～2026年7月） 決算概要 事業環境および業績予想 サムコ株式会社 東証プライム市場 証券コード：6387 2026年9月15日（火） https://www.samco.co.jp/ir/ 将来の見通しに関する記述について 本資料の将来の見通しに関する記述は、作成時点で入手可能な情報に基づいた当社の予測です。 既知または未知のリスク、不確実性、その他の要因によって、実際の業績が大きく異なる可能性があります。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 1
Slide 2: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 2
Slide 3: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 3
Slide 4: 26/7月期 業績ハイライト
26/7月期 業績ハイライト 売上高 営業利益 経常利益 108.0 12,000 10,000 8,000 8,203 9,342 億円 10,800 30.0 4,000 3,000 億円 2,342 3,004 31.1 4,000 3,000 2,088 億円 2,373 3110 2,017 前年同期比 +15.6% 6,000 前年同期比 +28.2% 2,000 前年同期比 +31.0% 2,000 4,000 1,000 1,000 2,000 5期連続増収・過去最高 0 7期連続増益・過去最高 0 7期連続増益・過去最高 0 24/7月期 25/7月期 26/7月期 24/7
Slide 5: 26/7月期 決算概要
26/7月期 決算概要 （百万円） 2025年9月発表 2026年6月発表 25/7月期 26/7月期 前年同期比 業績予想 業績予想 売上高 9,342 10,800 15.6% 10,200 10,785 売上総利益 4,668 5,535 18.6% 4,990 5,282 売上高総利益率 50.0% 51.3% - 49.0% 49.0% 営業利益 2,342 3,004 28.2% 2,460 2,631 営業利益率 25.1% 27.8% - 24.2% 24.4% 経常利益 2,373 3,110 31.0% 2,440 2,722 当期純利益 1,697 2,230 31.4%
Slide 6: 受注高と受注残高推移
受注高と受注残高推移 （百万円） 12,500 12,000 11,457 11,500 11,000 10,563 10,500 受注高 10,000 受注残高 9,500 9,000 8,500 7,961 8,000 7,500 6,705 7,000 6,211 6,500 6,019 5,704 5,828 5,532 5,697 6,000 5,418 5,393 5,323 5,361 5,500 5,027 4,976 5,124 5,000 4,451 4,500 3,791 4,139 4,000 3,500 3,000 2,500 5,429 2,000 4,315 4,
Slide 7: 26/7月期 装置別売上高
26/7月期 装置別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス CVD装置 CVD装置 14% 百万 13% 部品・メンテナンス 19% 15% 10000 洗浄装置 8% 洗浄装置 CVD装置 7% エッチング装置 8000 エッチング装置 65% 59% 25/7月期 26/7月期 （百万円） 6000 25/7月期 26/7月期 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 エッチング装置 4000 CVD装置 1,799 19.3% 1,440 13.3% △20.0% エッチング装置 5,503 58.9% 7,004 64.9% +27.3% 2000 洗浄装置 洗浄装置
Slide 8: 26/7月期 用途別売上高
26/7月期 用途別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス 14% その他 百万 部品・メンテナンス 化合物半導体 14% 33% 7% その他 10000 ヘルスケア 化合物半導体 11% 1% 41% ヘルスケア 2% 電子部品 8000 化合物半導体 シリコン半導体 30% シリコン半導体 電子部品 18% 7% 22% 25/7月期 26/7月期 （百万円） 6000 シリコン半導体 25/7月期 26/7月期 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 4000 電子部品 化合物半導体分野 3,066 32.8% 4,474 41.4% +45.9% シリコン半導体分
Slide 9: 26/7月期 新用途別売上高
26/7月期 新用途別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス 14% 部品・メンテナンス オプトエレクトロニクス 百万 15% 33% その他 オプトエレクトロニクス 10000 その他 4% 4% 38% 先端応用 先端応用 13% 24% 8000 電子部品 電子部品 オプトエレクトロニクス 24% 31% 25/7月期 26/7月期 （百万円） 6000 25/7月期 26/7月期 電子部品 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 4000 オプトエレクトロニクス分野 3,124 33.4% 4,084 37.8% +30.7% 電子部品分野 2,283 24.4%
Slide 10: 26/7月期 目的別売上高
26/7月期 目的別売上高 売上高の推移 構成比の推移 部品・メンテナンス 14% 百万 部品・メンテナンス 研究開発用 15% 33% 10000 研究開発用 生産用 47% 53% 8000 生産用 38% 研究開発用 25/7月期 26/7月期 （百万円） 6000 25/7月期 26/7月期 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 4000 生産用 研究開発用 4,415 47.3% 3,588 33.2% △18.7% 2000 生産用 3,572 38.2% 5,688 52.7% +59.2% 部品・メンテナンス 部品・メンテナンス 1,354 14.5% 1,523 14.
Slide 11: 26/7月期 地域別売上高
26/7月期 地域別売上高 欧州 その他 売上高の推移 構成比の推移 その他 4% 1% 欧州 百万 0% 2% 北米 13% 10000 北米 日本 9% 40% 日本 アジア 8000 アジア 62% 42% 27% 日本 25/7月期 26/7月期 （百万円） 6000 25/7月期 26/7月期 売上高 構成比 売上高 構成比 前年同期比 4000 日本 5,755 61.6% 4,346 40.2% △24.5% アジア 2,524 27.0% 4,525 41.9% +79.3% アジア 北米 830 8.9% 1,435 13.3% +72.8% 2000 欧州 220 2.4%
Slide 12: 過去5期 地域別売上高
過去5期 地域別売上高 （百万円） 12000 10000 8000 6000 4000 2000 0 22/7月期 23/7月期 24/7月期 25/7月期 26/7月期 日本 4,138 5,145 4,408 5,755 4,346 中国 1,053 1,269 1,936 1,414 2,771 台湾 171 248 350 549 717 韓国 322 475 506 341 463 その他アジア 214 109 113 218 572 北米 391 445 824 830 1,435 欧州 75 64 51 220 370 その他 33 71 12 11 122 本資料の著作権その
Slide 13: 26/7月期 キャッシュ・フロー
26/7月期 キャッシュ・フロー （百万円） 10,000 3,807 有形固定資産の取得 △121 9,000 -146 50 8,207 8,000 -525 7,000 配当金の支払 △481 6,000 5,022 5,000 税引前純利益 ＋3,102 4,000 売上債権・契約資産の減少 ＋1,326 3,000 法人税等の支払額 △750 2,000 1,000 0 25/7月期末残高 営業活動による 投資活動による 財務活動による 現金及び現金同等物に 26/7月期末残高 キャッシュ・フロー キャッシュ・フロー キャッシュ・フロー 係る換算差額 本資料の著作権その他の一切の権利
Slide 14: 貸借対照表（前事業年度末比）
貸借対照表（前事業年度末比） （百万円） 資産 （百万円） 負債・純資産 25,000 25,000 20,000 20,000 現金及び預金 4,849 10,197 受取手形・売掛金 3,214 1,036 15,000 15,000 6,983 1,000 たな卸資産 流動負債 10,000 1,743 その他 固定負債 3,070 10,000 3,467 有形固定資産 15,625 純資産 2,413 13,558 5,000 無形固定資産 5,000 4,455 4,528 投資その他の資産 0 762 1,107 0 25/7月期 26/7月期 25/7月期 26/7月期 ・ 現
Slide 15: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 15
Slide 16: 27/7月期 業績予想
27/7月期 業績予想 （百万円） 27/7月期 26/7月期 前年同期比 上期予想 下期予想 通期予想 売上高 10,800 7,000 7,500 14,500 +34.3% 売上総利益 5,535 3,490 3,780 7,270 +31.3% 売上高総利益率 51.3% 49.9% 50.4% 50.1% - 営業利益 3,004 1,810 2,070 3,880 +29.1% 営業利益率 27.8% 25.9% 27.6% 27.4% - 経常利益 3,110 1,780 2,060 3,840 +23.5% 当期純利益 2,230 1,180 1,560 2,740 +22.9
Slide 17: 1株当たり配当金と配当性向の推移
1株当たり配当金と配当性向の推移 （円） 80.0 75.0 75.0 100% 70.0 90% 60.0 80% 60.0 70% 50.0 60% 45.0 45.0 40.0 35.0 50% 30.0 40% 26.7% 28.4% 27.0% 26.5% 24.6% 30% 20.0 22.0% 20% 10.0 10% 0.0 0% 22/7月期 23/7月期 24/7月期 25/7月期 26/7月期 27/7月期 計画 1株当たり配当金 配当性向 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げま
Slide 18: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 18
Slide 19: InPデバイス加工・成膜装置ラインナップを拡充
Topics InPデバイス加工・成膜装置ラインナップを拡充 ― 研究開発用途から生産需要の取り込みへ ― AIデータセンター需要の拡大を背景に、InPデバイス向け装置を拡充 • 3・4・6インチ基板に対応するICP、CCP-RIE、PECVD等のラインナッ プを強化し、光通信・光電融合分野の幅広いプロセスに対応。 • 研究開発装置で培った技術・実績を基盤に、量産・生産用途の需要取 り込みを加速するとともに、GaAs・GaN高周波デバイス、GaN・SiC パワーデバイスへの展開を推進します。 ① 市場拡大 PECVD System PD-2201HLC AIデータセンター投資の拡大により、光通
Slide 20: 原子層レベルの制御を実現するALE装置の販売を開始
Topics 原子層レベルの制御を実現するALE装置の販売を開始 当社は、原子層レベルでの精密なエッチング制御を可能にするALE装置 「RIE-400iP-ALE」および「RIE-800iPC-ALE」の販売を開始いたしました。 本製品は本格的な販売開始に先立ち、既に国内外の大学・研究機関様への 販売・納入実績があり、次世代デバイス開発における重要プロセスとし高 い関心と評価をいただいております。 〇成長市場への展開 ウェアラブル・ 光通信・光電融合 量子コンピューター シリコンフォトニクス、光導波路 超伝導量子ビット、スピン量子ビット フレキシブル センサー、共振器 ヘルスケア・ パワーデバ
Slide 21: 北海道大学 松尾先生による講演会を開催
Topics 北海道大学 松尾先生による講演会を開催 去る2月16日、北海道大学 電子科学研究所 教授の松 尾先生をお招きし、「ALDの最近の話題」と題した 講演会を開催しました。 講演では、ALDの最新研究動向やデバイス応用、材 料開発、市場動向についてご紹介いただきました。 また、今後の市場成長の見通しに加え、エリア選択 ALD、窒化膜対応、成膜高速化などの技術課題につ いても議論が行われ、当社技術者にとって貴重な学 びの機会となりました。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 21
Slide 22: 国際学会・産学連携イベントでALE技術を発信
Topics 国際学会・産学連携イベントでALE技術を発信 当社は、米国開催の「ALD/ALE 2026」および 「OneNano Meeting」において、ALE（Atomic Layer Etching）技術に関する研究成果・技術講演を実施し ました。 ALD/ALE 2026では、SiO₂準ALEプロセスのエッチン グレート安定化に関する研究成果を発表しました。 OneNano Meetingでは、半導体材料向けプラズマ エッチング技術に関する講演を行い、研究者・技術 者との活発な技術交流を実施しました。 両イベントを通じて、当社の先端エッチング技術の 認知向上と、グローバルな研究機関・
Slide 23: 生産キャパシティ向上の取り組み
Topics 生産キャパシティ向上の取り組み 当社はファブライト型生産を採用しており、製造・組立・電気配 線などの工程は信頼できる外部協力会社へ委託しております。 今後の需要拡大を見据え、生産キャパシティを段階的に拡大して おります。 組立 外部パートナーの活用により、最大で現状の約2倍まで対応可能 調整・検査 能力増強を継続中 ・中小型機：約50％増強済み ・大中型機：約50％の増強に着手 外部協力会社の工場外観・生産スペース 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 23
Slide 24: 台湾ITRIを訪問、連携強化に向け意見交換
Topics 台湾ITRI（工業技術研究院）を訪問、連携強化に向け意見交換 去る2026年2月2日、当社代表取締役会長の辻 理が、 台湾・新竹県の工業技術研究院（ITRI）を訪問し、今 後の連携強化に向けた意見交換を行いました。 ITRIは台湾を代表する研究機関であり、世界有数の応 用技術研究機関として6,500人超の研究開発人材を擁 する研究開発拠点です。TSMCおよびUMCの創出に貢 献するなど、台湾半導体産業の発展を牽引してきまし た。また、先端技術の事業化を推進し、台湾の産業競 争力向上に重要な役割を果たしています。 左から：サムコ株式会社 代表取締役会長 辻 理、ITRI 院長 張
Slide 25: 管理部門の組織体制を再編
Topics 管理部門の組織体制を再編 事業規模の拡大に対応し、経営管理体制の強化と意思決定の迅速化を図るため、管理統括部を廃止しまし た。 あわせて、管理部門を担当する取締役を2名体制とし、宮本取締役が経理部、山本取締役が経営企画室・ 総務部を担当します。 変更前 変更後（予定） 管理統括部を介した管理体制 管理統括部を廃止し、各管理部門を社長直轄に 組織階層を簡素化するとともに、 それぞれの専門性を活かした役割 経理部 経理部 宮本取締役 取締役経理部長 社長 社長 分担を明確にすることで、事業成 管理統括部 八田執行役員 人事部 人事部 長を支える経営管理機能のさらな → 人事部長 る強
Slide 26: VCU EMBA生 サムコを訪問
Topics 米国バージニア・コモンウェルス大学EMBA生 サムコを訪問 当社は、VCU EMBAグローバルチャレンジプログラ ムの一環として、バージニア・コモンウェルス大学 （VCU）のEMBA学生およに教職員25名を京都本社 に迎えました。 訪問では、当社の創業から現在に至るまでの歩みや、 半導体産業における当社技術の役割について紹介し ました。 活発な質疑応答も行われ、本訪問は当社の事業や技 術、日本企業の価値観への理解を深めるとともに、 グローバル人材との交流を深める貴重な機会となり ました。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配
Slide 27: 2026年ベネズエラ地震救援金への寄付
Topics 2026年ベネズエラ地震救援金への寄付 当社は、社会貢献活動の一環として、毎年決算期で ある7月に日本赤十字社への寄付を行っています。 このたび、2026年6月にベネズエラで発生した地震 により被災された方々への支援として、日本赤十字 社の「2026年ベネズエラ地震救援金」に1,000万円 を寄付いたしました。被災された皆さまに心よりお 見舞い申し上げるとともに、被災地域の一日も早い 復旧・復興を心よりお祈り申し上げます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 27
Slide 28: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 28
Slide 29: 新取締役会体制（2026年10月27日予定）
新取締役会体制（2026年10月27日予定） 代表取締役会長 辻 理 常勤監査役 辻村 茂 代表取締役社長 川邊 史 社外監査役 木村 学 取締役専務執行役員 山下 晴彦 社外監査役 羽津 隆弘（新任） 取締役執行役員 宮本 省三 取締役執行役員 佐藤 清志 取締役執行役員 山本 仁志（新任） 社外取締役 高須 秀視 社外取締役 藤田 静雄 社外取締役 桺本 依子 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 29
Slide 30: 中期経営計画 重要指標（見直し後）
中期経営計画 重要指標（見直し後） 装置製造原価率 営業利益率 海外売上比率 46 % 以下 25 % 以上 50 % 以上 第47期（実績） 第48期（計画） 第49期（計画） 売上高 108.0億円 145.0億円 180.0億円 （前年同期比） （+15.6%） （+34.3%） （+24.1%） 装置製造原価率 44.3% 46.6% 46.0% 営業利益 30.0億円 38.7億円 48.8億円 （営業利益率） （27.8%） （26.8%） （27.2%） 海外売上高 64.5億円 87.0億円 108.0億円 （海外売上比率） （59.8%） （60.0%） （60.0%） 国内
Slide 31: 中期経営計画目標を上方修正
中期経営計画目標を上方修正 第47期（実績） 第48期（修正前） 第48期（修正後） 第49期（修正前） 第49期（修正後） 売上高 108.0億円 112.0億円 145.0億円 123.0億円 180.0億円 （前年同期比） （+15.6%） （+3.7%） （+34.3%） （+9.8%） （+24.1%） 装置製造原価率 44.3% 46.6% 46.0% 46.0% 営業利益 30.0億円 38.7億円 31.4億円 48.8億円 （営業利益率） （27.8%） （26.8%） （25.6%） （27.2%） 海外売上高 64.5億円 87.0億円 61.5億円 108.0億円 （海
Slide 32: 中計の重要課題とその進捗
中計の重要課題とその進捗 重点施策 進捗状況 • ALE装置の販売を開始 1 新しいプロセス及び新規装置の開発、販売 • InP加工用生産装置ラインナップ拡充 • 生産機販売構成比 56.7%、前期比+59%。 2 生産機販売の強化 • 部品、メンテナンス専属部署設立 • 海外売上65.5億円（前期比+80%) 3 海外販売の拡大 • 海外売上比率60% • 生産キャパ200億円に目処 4 生産体制の拡充 • 生産平準化進展 • 社員教育 5 更なる成長に向けた人員育成・活躍推進 • 高度人材の採用 • 装置のCO₂排出量抑制 6 サステナビリティへの取り組み • 社会貢献 本資料の著作権その
Slide 33: サムコを取り巻く環境
サムコを取り巻く環境 最先端技術で、未来の当たり前を創る 光電融合・ 電子部品 光デバイス （高周波フィルタ・MEMS） シリコンフォトニクス：CAGR 29.5% MEMS：CAGR 4.6% 量子デバイス・ 先端パッケージング 2次元材料 量子コンピュター：CAGR 41.8% 先端パッケージング：CAGR 9.4% 次世代 ライフサイエンス・ パワーデバイス ヘルスケア パワーデバイス：CAGR 5.4% ヘルスケア関連：CAGR 4.6% 出典：「IEA Energy and AI（2025）」、 「MarketsandMarkets市場調査（2025）」、「Mordor Intell
Slide 34: 中期経営計画 ― そしてその先へ
34 28/7(計画) 27/7(計画) 26/7 25/7 24/7 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 23/7 22/7 21/7 20/7 19/7 18/7 17/7 16/7 15/7 14/7 「薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」の理念のもと 13/7 12/7 11/7 10/7 09/7 08/7 07/7 06/7 05/7 04/7 03/7 02/7 01/7 00/7 99/7 98/7 97/7 中期経営計画 ― そしてその先へ、 96/7 95/7 右肩上がり
Slide 35: お問い合わせ
お問い合わせ 経営企画室 E-mail: kikaku@samco.co.jp URL : www.samco.co.jp A Better Tomorrow Driven by Thin Film Technology 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 35
Slide 36: 目次
目次 1. 2026年7月期 決算概要 2. 2027年7月期 業績予想 3. Topics 4. 中期経営計画 5. 参考資料 2反応室ALD装置（原子層堆積装置） 「AD-8002LPC」 ALE装置（原子層エッチング装置） 「RIE-400iP」 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 36
Slide 37: 参考資料
参考資料 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 37
Slide 38: 会社概要
会社概要 商 号 サムコ株式会社 Samco Inc. 代表取締役会長 辻 理（つじ おさむ） 代 表 者 代表取締役社長 川邊 史（かわべ つかさ） 設 立 1979年（昭和54年）9月1日 本 社 所 在 地 〒612-8443 京都市伏見区竹田藁屋町36 事 業 内 容 半導体等電子部品製造装置の製造及び販売 売 上 高 108.0億（2026年7月期） 従 業 員 201名 （2026年7月） 証 券 コ ー ド 6387 東京証券取引所 プライム市場 代表取締役会長 代表取締役社長 辻 理 川邊 史 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三
Slide 39: 沿革
沿革 サムコインターナショナル研究所 設立 半導体プロセス用大型CVD装置の開発、販売を開始 化合物半導体製造用MOCVD装置の開発、販売を開始 国産初 東京都品川区に東京出張所（現東日本営業部）を開設 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 39
Slide 40: 沿革
沿革 液体ソースによる高速成膜用CVD装置の開発、販売を開始 小型、汎用プラズマエッチング装置RIE-10NR の開発、販売を開始 キリンビール株式会社と共同で、 プラスチックボトルに DLC膜を形成する技術を開発 700+ の販売実績 日本証券業協会に株式を店頭上場 株式会社サムコインターナショナル研究所から サムコ 株式会社へ社名を変更 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 40
Slide 41: 沿革
沿革 東京証券取引所市場第二部へ上場市場を変更 東京証券取引所市場第一部銘柄に指定 原子層堆積（ALD）装置AL-1の開発・販売を開始 先端 技術研究棟 竣工 Aqua Plasma®洗浄装置AQ-2000の開発、販売を開始 クラスターツールシステム「クラスターH 」の販売を開始 プライム市場へ移行 先端技術研究棟を竣工 生産用ALD装置「AD-8002LPC」の販売を開始 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 41
Slide 42: 製品
製品 ◼ 薄膜形成分野 • プラズマCVD装置 • 液体ソースCVD®装置 • ALD (Atomic Layer Deposition) 装置 ◼ 微細加工分野 • 反応性イオンエッチング装置 • ICP (Inductively Coupled Plasma) エッチング装置 • ALE (Atomic Layer Etching) 装置 • 高速Siディープエッチング装置置 • XeF2ドライエッチング装置 ◼ 洗浄・表面処理分野 • Aqua Plasma® クリーナー • プラズマクリーナー • UVオゾンクリーナー 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております
Slide 43: 半導体製造工程概略
半導体製造工程概略 サムコの使われる工程 薄膜形成 フォトレジスト塗布 露光 ウエハ 後工程（パッケージング工程） 前工程（ウエハプロセス工程） 繰り返し エッチング パッケージング前洗浄 ワイヤボンディング前洗浄 レジスト除去・洗浄 ダイボンディング前洗浄 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 43
Slide 44: 薄膜形成分野 ｜ Deposition
薄膜形成分野 ｜ Deposition 薄膜形成分野では、CVD（Chemical Vapor Deposition: 化学気相 薄膜形成 成長）装置を提供しています。CVDとは、原料となるガスを化 成膜（CVD） 学反応させ、半導体の表面に非常に薄い膜（数nm ～ 数μmの厚 み）を形成する技術です。 サムコのCVD装置は、プラズマのエネルギーを利用して化学反 応を促進することで、比較的低温でも高品質な薄膜を形成する ことができます。また、微細で複雑な構造を持つ半導体の表面 にも均一な膜を形成できるため、先端半導体の製造工程で幅広 く活用されています。 形成された薄膜は、半導体を水分や汚染物
Slide 45: 微細加工分野 ｜ Etching
微細加工分野 ｜ Etching 微細加工分野では、ドライエッチング装置を提供しています。ド エッチング ライエッチングとは、プラズマを利用して半導体表面の不要な部 エッチング 分を削り取り、微細な回路や構造を形成する技術です。半導体の 高性能化や小型化を実現するうえで欠かせない重要な工程の一つ です。 サムコのドライエッチング装置は、プラズマを高精度に制御する ことで、ナノメートルレベルの微細な加工を可能にします。また、 複雑な形状や深い溝にも高精度な加工を行うことができるため、 先端半導体の製造工程で幅広く活用されています。 形成された微細構造は、電気信号の制御やデバイス性能の向上に 重要
Slide 46: 洗浄・表面処理分野
洗浄・表面処理分野 ｜ Cleaning and Surface Treatment 洗浄・表面処理分野では、プラズマ洗浄装置およびUVオゾンク 洗浄・表面処理 リーナーを提供しています。 レジスト除去・表面洗浄 プラズマ洗浄とは、半導体表面に付着した微細な汚染物質や有機 物を除去し、クリーンな状態を実現する技術です。また、表面処 理では、材料表面の状態を改質することで、その後の成膜や接合 工程の品質向上に貢献します。 サムコの装置は、プラズマを高精度に制御することで、材料への ダメージを抑えながら効率的な洗浄・表面処理を実現します。微 細化が進む半導体デバイスにも対応し、高い再現性と安定した
Slide 47: 応用分野 ｜ Applications
応用分野 ｜ Applications 最先端技術で、未来の当たり前を創る 光電融合・ 電子部品 光デバイス （高周波フィルタ・MEMS） データ社会の限界を突破する つながる日常を、より高度に 量子デバイス・ 先端パッケージング 2次元材料 物理の限界に挑むナノ制御 半導体の真価を引き出す実装技術 次世代 ライフサイエンス・ パワーデバイス ヘルスケア クリーンなエネルギー循環を支える テクノロジーで、健やかな暮らしへ 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 47
Slide 48: 応用分野：光電融合・光デバイス
応用分野 ｜ Applications 光電融合・ 光デバイス データ社会の限界を突破する AIコンピューティングとデータセンターの電力課題を解決する「光電融合」 。 私たちは、InP（リン化インジウム）やGaAs（ヒ化ガリウム）を用いた端面 発光レーザー（EEL）や面発光レーザー（VCSEL）といった光デバイス製造に おいて、長年培った知見を提供し、次世代ネットワークの高速化・低消費電 力化を加速させています。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 48
Slide 49: 応用分野：量子デバイス・2次元材料
応用分野 ｜ Applications 量子デバイス・ 2次元材料 物理の限界に挑むナノ制御 量子コンピュータの実現に向けた超伝導量子ビットや、グラフェンをはじ めとする2次元材料。ナノレベルでの制御性が求められるこれらの領域に、 ALD（原子層堆積）やALE（原子層エッチング）などの先端技術で応え、 未知の可能性を秘めたデバイス開発を支えます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 49
Slide 50: 応用分野：次世代パワーデバイス
応用分野 ｜ Applications 次世代 パワーデバイス クリーンなエネルギー循環を支える 脱炭素社会の実現に向け、電気自動車（EV）や再生可能エネルギーの効率を 高める次世代パワーデバイス。GaN（窒化ガリウム）やSiC（炭化ケイ素）に 加え、Ga2O3（酸化ガリウム）やダイヤモンドなどの次世代材料に対応する ALD（原子層堆積）やALE（原子層エッチング）技術を通じて、エネルギーの 未来を切り拓きます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 50
Slide 51: 応用分野：電子部品
応用分野 ｜ Applications 電子部品 （高周波フィルタ・MEMS） つながる日常を、より高度に スマートフォンに欠かせない高周波フィルタ（BAW/SAW）やスマート社会の 「目」となるMEMSセンサー。圧電材料の高精度エッチングやBosch Process による高速シリコンディープエッチング技術により、デバイスの小型化と高 性能化を両立させ、より便利で安全な社会づくりに貢献しています。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 51
Slide 52: 応用分野：先端パッケージング
応用分野 ｜ Applications 先端パッケージング 半導体の真価を引き出す実装技術 チップレット構造や3D実装など、半導体のさらなる進化を支える後工程。 Aqua Plasma® による還元性プラズマ処理やウエハ接合前の表面改質、 Bosch Processによる高速シリコンディープエッチングなどを通じて、複雑化する パッケージングプロセスにおける歩留まりと信頼性の向上に貢献します。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 52
Slide 53: 応用分野：ライフサイエンス・ヘルスケア
応用分野 ｜ Applications ライフサイエンス・ ヘルスケア テクノロジーで、健やかな暮らしへ 独自のAqua Plasma®技術は、マイクロ流路チップの接合やバイオセンサーの 開発など、医療・ライフサイエンス分野にも広がっています。迅速な診断や 高度な分析を可能にするデバイスづくりを通じて人々の健康と豊かな生活に 寄与していきます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 53
Slide 54: 社名に込められた材料開発への想い
社名に込められた材料開発への想い Samco（サムコ） Samcoは、Semiconductor And Materials COmpany の頭文字を取った名前です。 Semiconductor 「半導体と材料開発の分野で躍進する」という想いが込められています。 And Materials COmpany 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 54
Slide 55: Mission 経営理念・経営方針
はくまく 薄膜技術で世界の産業科学に貢献する 経営理念 • 企業の永続的な発展を追求し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻 く利害関係者とともに成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に 貢献する。 Mission 経営方針 1. 社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。 2. 直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。 3. 事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、 取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送
Slide 56: Vision グローバル中堅企業
グローバル中堅企業 1. 世界中で自由にビジネスを展開し、自社の独自技術を活かし、質の高い製品と サービスを提供し続ける。 2. コア技術（薄膜技術）をベースに、参入障壁の高い領域において、特定の製品 で圧倒的シェアを有することで、自ら製品に値付けが出来る力を持ち、高い収 益率を維持し続ける。 Vision 3. 売上の規模を求めるだけでなく、継続的に利益を稼げる市場に特化、集中する。 4. 組織体制は少数精鋭のプロ集団である。 5. 適正な税金を納め、国家や地域の発展にも貢献する。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わな
Slide 57: 行動指針 勇気・創造・勤勉
行動指針 勇気・創造・勤勉 勇気 創造 勤勉 Code of Conduct 前向きな気持ちで積極的に取 知恵と知識を生かして世の 不断の努力を惜しまない実 り組む姿勢です。失敗を恐れ 中にないモノや仕組みを生 直に学び続ける姿勢です。 ず、自発的にチャレンジする み出すことです。創造はそ 世の中にないモノを生み出 気持ちを大切にしています。 の大小を問いません。毎日 すには、世の中にあるモノ の小さな創造が、将来予測 を知らないといけません。 の困難な時代を生き抜く大 そのためには常に学ぶこと きな力になります。 が必要です。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しておりま
Slide 58: 製品思想
製品思想 環境に 高付加 小さい 優しい 価値 Philosophy コンパクトでなるべく小さ 原料にガスではなく液体 大量生産はしない。知恵 く。十分な設置スペースが を用いたLSCVD®法や水蒸 や知識を活かし、世の中 ない研究機関などでも使え 気を用いたAqua Plasma® にない製品をつくり、高 る製品づくりを行っていま など 環境負荷を抑えた い付加価値を創出します。 す。 技術を開発しています。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 58
Slide 59: バリューチェーン
バリューチェーン 全般管理（IT、インフラストラクチャ―） 人事・労務管理 支援活動 知財・法務 研究開発・新規事業 営業・ 購買・調達 製造 検査・出荷 アフター マーケティング サービス 主活動 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 59
Slide 60: 職種相関図
職種相関図 お客様 大学・研究機関 半導体・電子部品メーカー 電子機器・ソフトメーカー 注文 納品 装置出荷 サムコ お客様に提案する。サポートする。 国内営業 海外営業 営業推進 製品サービス デモ依頼 新製品、新技術をつくる。 装置をつくる。品質を管理する。 開発 装置手配 設計 製造 資材 技術サポート 新規事業 製品技術 品質保証 社内で働く人をサポートする。 総務 人事 経理 経営企画 広報宣伝 社長室 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 60
Slide 61: ファブライト：生産を外部委託
ファブライト：生産を外部委託 設計・調達 製造・組み立て 調整・検査 出荷 サムコ 協力会社 購入部品・ 製作部品 ファブライト ソフトのインストール・出荷 検査・最終調整は社内 製造・組み立て・電気配線など リスト・ 信頼のおける外部の協力会社へ委託 図面等は内製 標準装置 装置によっては 70 ％近く協力会社で完成 特注装置は、社内で協力会社と連携して製造 特注装置 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 61
Slide 62: 先端技術研究棟を竣工
先端技術研究棟を竣工 2025年9月 サムコの次世代研究開発の 中核拠点 • 中期経営計画において重点課題と位置付けるクラスター ツールシステムの拡販のための研究開発機能をさらに充実 させるため建設。 • 180 m2のクリーンルームはクラス1,000（米国連邦規格） の清浄度で、ポンプ類はバックヤードに設置し、パーティ クルの発生を抑え、生産工場と同じ環境で開発 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 62
Slide 63: 事業拠点（国内）
日本国内拠点 京都 本社 研究開発センター 第二研究開発棟 先端技術開発棟 つくば営業所 製品サービスセンター 生産技術研究棟 第二生産技術研究棟 東日本営業部 東海支店 事業拠点｜サムコ株式会社 (samco.co.jp) 本社周辺のアクセスマップやGoogle mapのご案内はこちら 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 63
Slide 64: 海外営業・サービス拠点
海外営業・サービス拠点（11拠点） リヒテンシュタイン・ ニュージャージー州 Samco-ucp ltd. 北京事務所 イーストコーストオフィス 韓国事務所 上海事務所 台湾・新竹事務所および カリフォルニア州（シリコンバレー） 台南サービスオフィス オプトフィルムス研究所 インド・ ベンガル―ルオフィス シンガポール支店 マレーシア事務所 事業拠点｜サムコ株式会社 (samco.co.jp) 海外拠点の住所やGoogle mapのご案内はこちら 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 64
Slide 65: 世界37ヵ国 5,000台以上の販売実績
世界37ヵ国 5,000台以上の販売実績 欧州: 50 中国: 500 韓国: 110 日本: 3,600 アメリカ: 350 インド: 30 台湾: 350 東南アジア: 150 事業拠点｜サムコ株式会社 (samco.co.jp) 海外拠点の住所やGoogle mapのご案内はこちら 2026/1 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 65
Slide 66: 暮らしを支える半導体・電子部品
暮らしを支える半導体・電子部品 私たちの暮らし インターネット 自動運転、EV ◼ 私たちの暮らしは、多くの半導体 データセンター や電子部品に支えられています。 電子機器 社会インフラ ◼ 半導体や電子部品を製造するのに 不可欠なのが「製造装置」です。 半導体、電子部品 100兆円 ◼ サムコは独自の製造装置をつくる ことで、少しだけ私たちの暮らし を支えています。 半導体製造装置 15兆円 出典：一般社団法人電子情報技術産業協会 JEITA（2021）電子情報産業の世界生産見通し、2021年12月発表 およびGlobal Total Semiconductor Equipment Sale
Slide 67: 半導体・電子部品業界での立ち位置
半導体・電子部品業界での立ち位置 サプライヤー 半導体、電子部品 電子機器・ソフト 協力会社 メーカー メーカー 消費者 大学・官庁・ 半導体材料・ 研究機関 設計・知財 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 67
Slide 68: 株式の状況（2026年7月末時点）
株式の状況（2026年7月末時点） ・発行可能株式総数 14,400,000株 所有者別株式分布状況（株式数ベース） ・発行済株式の総数 8,042,881株 ・株主数 8,048名 ■個人・その他 2,906,775株 (36.1%) 持株比率 ■その他の法人 1,934,438株 (24.1%) 株主名 持株数（株） （％） ■金融機関 1,736,400株 (21.6%) 一般財団法人サムコ科学技術振興財団 1,000,000 12.4 ■金融商品取引業者 376,798株 (4.7%) 辻 理 861,697 10.7 ■外国法人等 1,077,897株 (13.4%) サムコエンジニ
Slide 69: 主要数値の変遷
主要数値の変遷 22/7月期 23/7月期 24/7月期 25/7月期 26/7月期 売上高 （百万円） 6,401 7,830 8,203 9,342 10,800 営業利益 （百万円） 1,371 1,858 2,017 2,342 3,004 営業利益率 （%） 21.4 23.7 24.6 25.1 27.8 経常利益 （百万円） 1,481 1,927 2,088 2,373 3,110 当期純利益 （百万円） 1,052 1,366 1,471 1,697 2,230 総資産 （百万円） 13,379 14,795 16,116 18,205 21,511 自己資本 （百万円） 1
Slide 70: ESG・サステナビリティ
ESG・サステナビリティ 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 70
Slide 71: 脱炭素社会を薄膜技術で支える
脱炭素社会を薄膜技術で支える 事業を ESG ※1 TCFD ※2 通じて 委員会 気候変動に関連 した情報開示 Sustainability 省エネに貢献するパワー 気候変動にかかわるリ ESG委員会より、ガ 半導体や太陽電池の製造 スクおよび機会、事業 バナンス、戦略、リ にサムコの装置は貢献し 活動や収益に与える影 スク管理、指標と目 ています。また、環境負 響についてのデータ収 標について、HPに 荷を抑えた製品づくりを 集と分析を行う「ESG 開示します。 行っています。 委員会」を設置してい ます。 ※1 ESG:環境（Environment）、社会（Social）、ガバナンス（G
Slide 72: 持続可能な社会の実現に向けて サムコの取り組み
持続可能な社会の実現に向けて サムコの取り組み 経営理念 ～薄膜技術で世界の産業科学に貢献する～ ≪気候変動・脱炭素への取り組み≫ 当社が重点的に取り組むSDGs ・TCFD提言に基づいた情報開示。ESG委員会の活動による気候変動への対応状況把握、対策。 E ・環境方針（2006年制定）に沿った取り組みを実施。 ≪環境配慮型製品≫ 環境 ・省エネ・脱炭素を支えるLED、レーザー、次世代パワーデバイスの製造などを支える装置メーカー。 ・コア技術である最先端の“薄膜技術”をベースに世界中の製造現場や研究者へ装置を提供。 ・主な取り組みテーマ ①製品容積の減少、②消費エネルギーの削減、③会社消費電力
Slide 73: サステナビリティに関する取り組み
サステナビリティに関する取り組み 取り組みテーマ 概 要 製品容積の減少 半導体製造装置の製造現場では、多大な電力を要するクリーンルームでの効率的な装置配置が不可 欠です。そのためには、フットプリントの削減が重要なポイントとなります。更に小さなサイズの 装置とすることで納品時における移送コストの削減を行うことができます。 消費エネルギーの削減 より少ない電力消費で当社装置を稼働できるよう省電力が可能となる部品の選択や構成の見直しな どを恒常的に行ってまいります。 会社消費電力量の削減 当社業務活動における電力消費、温室効果ガスの排出量削減を目指した取り組みを行ってまいりま す。 グリーン調達
Slide 74: TCFD対応
TCFD対応 気候関連財務情報開示タスクフォース（TCFD） G20財務大臣・中央銀行総裁会議の要請を受け、金融安定理事会（FSB）により2015年12月に設立された「Task Force on Climate-related Financial Disclosures」の略称。 「ESG委員会」より、ガバナンス、戦略、リスク管理、指標と目標について当社ホームページ上で開示。 ESG委員会 気候変動に係るリスク及び機会、自社の事業活動や収益に与える影響についての データ収集と分析を行うため、代表取締役社長を委員長とする「ESG委員会」設置。 ⇒活動内容を取締役会に年1回以上報告 ⇒財務への影響
Slide 75: 省エネ、脱炭素社会実現を支えるサムコの技術
省エネ、脱炭素社会実現を支えるサムコの技術 サムコの“薄膜技術”は省エネ・脱炭素を支えるLED、 次世代パワーデバイスなどを支えています。 当社のコア技術である最先端の“薄膜技術”をベース に、SDGsに関連する環境・社会・ ガバナンスの視点から研究開発、人材育成に注力。 最先端の製造装置を世界中の製造現場や研究者へ提 供し、省エネ、脱炭素社会の実現に 貢献していきます。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 75
Slide 76: サムコとSDGsの関わり
サムコとSDGsの関わり ・当社の主な事業領域である半導体・電子部品製造装置事業は、SDGsの目標を達成するためには欠かせない 技術です。 ・SDGsの17の目標では、経済、産業、社会等の課題を取り扱っていますが、当社では、創業以来、 「企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と 共に成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」という経営理念を掲げて、 社会への貢献に重きを置いてきました。 事業との関連性が高い以下の項目について、重点的に取り組んでまいります。 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、
Slide 77: サムコのSDGsの取り組み例
サムコのSDGsの取り組み例 ・マイクロ流体チップ、医療用ドライ滅菌装置の製造に当社アクアプラズマ技術の寄与を目指す。 ・深紫外LED空気清浄機（コロナウィルス不活性化）製造に当社装置が寄与。 ・医療機器、エコーヘッドセンサーの製造に当社装置が寄与。 ・日本赤十字社への寄付。（ウクライナ人道危機救援金、能登半島地震災害義援金、トンガ大津波支援等） ・国内外の大学（ODA案件を含む）・研究機関等における医療分野や科学分野の研究のために、幅広く当社装置を提供。 ・サムコ科学技術振興財団を通じ、基礎・応用研究に携わる若手研究者を支援。 ・京都工芸繊維大学にサムコ辻理寄附講座「先端材料科学講座」を開講
Slide 78: サムコのSDGsの取り組み例
サムコのSDGsの取り組み例 産業と技術革新の基盤造りのため、以下の用途等に装置を提供 ・5G関連の高周波フィルター、高周波デバイスの製造やデータセンターなどVCSEL（面発光レーザー）を含む 通信用LD（レーザー）用装置の製造。 ・自動運転用のセンシング技術（LiDAR）、各種センサーや宇宙衛星の探索用センサー機器の製造。 ・有機EL、マイクロLEDの製造。 ・超伝導デバイス、量子デバイスの研究開発用途。 ・人の健康や環境を守るために当社での製造過程、製品について適正な管理を実現する。 ・環境に調和するプロセス技術の開発と、製造から廃棄までを考慮した環境負荷軽減型の製品開発に努める。 ・省エ
Slide 79: サムコの人材育成方針
サムコの人材育成方針 １．仕事は楽しく、面白くあるべきである。一所懸命に楽しく仕事をして、かつ面白い。そして良い結果がついてくる。 そんな楽しく、面白い日々が日常である会社とする。 ２．“学ぶ”を忘れない。学ぶことを常に念頭に置き、長きに渡り己を磨くことで自らの価値を高めてほしい。 特に若手社員は30代までに能力向上に勤しむ癖をつけなければならない。 ３．リスキリングにより第一線で活躍できるスキルを身に付けることにより、70歳まで働ける企業としていく。シニア社員が 十分社会貢献できるよう再教育することを会社の使命と考える。 ４ ．外国籍社員の採用を増やし、若手社員の海外経験を増やすことによりグ
Slide 80: 資本コストや原価を意識した経営の実現に向けた対応
資本コストや原価を意識した経営の実現に向けた対応 当社は、中長期的な経営指標として「装置製造原価率46％以下」「売上高営業利益 20.0% 率25％以上」「海外売上高比率50％以上」を掲げ、収益性と成長性を重視した経営の 18.0% 16.7% 実現に向け対応しております。 16.0% 15.3% 当社の2025年7月期（第46期）のROEは13.0%であり、2026年7月期（第47期）は 14.0% 12.9% 13.0% 12.6% 15.3%となりました。2027年7月期（第48期）の計画は16.7%です。また、「資本コス 12.0% 10.8% ト」については、その概念や計算方法につい
Slide 81: 株主・投資家との対話状況
株主・投資家との対話状況 基本方針 当社は、持続的な企業価値の向上のために、株主との間で建設的な対話を行うこととしております。株主との対話につきまして は、代表取締役社長 川邊 史の管掌の下、専任部署である経営企画室（2026年7月現在3名）を中心に、経理部、総務部、社長室など の関連部署と密接に連携しつつ、IR活動を行っています。また、対話に際しては内部規定に基づき未公表のインサイダー情報の管 理を徹底しております。 対話を行った株主の概要 対象期間：2025年8月1日から2026年7月31日までの1年間 【機関投資家・アナリスト向け】 ・1 on 1 ミーティング 166件 ・機関投資家・
Slide 82: IRカレンダー
IRカレンダー 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 82
Slide 83: お問い合わせ
お問い合わせ 経営企画室 E-mail: kikaku@samco.co.jp URL : www.samco.co.jp A Better Tomorrow Driven by Thin Film Technology 本資料の著作権その他の一切の権利は、サムコ株式会社に属しております。複製、転送、第三者への配布等を無断で行わないようお願い申し上げます。 83