A&D HOLON Holdings Company. Limited · TSE:7745
A&D HOLON — 株式会社a&dホロンホールディングス — Q2 FY2027/3 Earnings Presentation
9 slides from A&D HOLON's earnings presentation, Nov 6, 2026
Slide 1: 2027年3月期 第2四半期 決算説明補足資料
2027年3月期 第2四半期 決算説明補足資料 2026年11月6日 株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングス 証券コード 7745
Slide 2: エグゼクティブサマリー
エグゼクティブサマリー 2027年3月期 第2四半期決算概要 半導体関連事業の需要調整に伴う業績低迷により大幅減益 ただし、計測・計量機器事業および医療・健康機器事業の業績が好調に推移した ことにより、第２四半期累計予想に対して売上高、営業利益ともに上回る なお、半導体関連事業の受注残高は前年同期比＋40.3%と需要回復に向けた動きが より鮮明になる 2027年3月期業績予想 医療・健康機器事業の全地域における需要は継続を見込む また、計測・計量機器事業においても、日本を中心に堅調な業績推移を想定 当初予想は、売上高700億円（＋2.9％）、営業利益80億円（＋14.3％）へ上方修正 なお、2
Slide 3: 2027年3月期第2四半期 業績の概況
2027年3月期第2四半期 業績の概況 売上高 30,172百万円（前年同期比 -0.7％）、営業利益 2,178百万円（同 -31.0%) と大幅減益で着地 第２四半期累計予想に対しては、売上高、営業利益ともに上回る （ご参考） 2026/3期 Q2累計 2027/3期 Q2累計 増減額 前年同期比 期初２Q累計 達成率 （単位：百万円） 額 率 額 率 予想 売上高 30,381 ー 30,172 ー -209 -0.7% 28,000 107.8% 売上原価 16,671 54.9% 16,243 53.8% -428 -2.6% ー ー 売上総利益 13,710 45.1% 13,92
Slide 4: セグメント別業績
セグメント別業績 半導体関連事業 （単位：百万円） 26/3期 2Q累計 27/3期 2Q累計 前年同期比 売上高 5,075 1,279 -74.8% • 当社の事業領域における需要調整局面は継続、売上高減少に伴い固定 費が吸収できず減益 営業利益※2 1,570 -675 - • 受注残高は8,473百万円と前年同期を上回り堅調に推移、需要回復に向 けた動きがより鮮明になる 受注残高※3 6,041 8,473 +40.3% 計測・計量機器事業 （単位：百万円） 26/3期 2Q累計 27/3期 2Q累計 前年同期比 売上高 13,505 14,925 +10.5% • 日本では、MCS機
Slide 5: 地域別業績
地域別業績 日本は、半導体関連事業における需要調整の影響があり、前年同期比減収減益 米州は、医療・健康機器事業が好調に推移し業績をけん引、為替の影響や米国関税の還付による利益押し上げもあり前年同期比増収増益 欧州も、医療・健康機器事業が業績をけん引、販売価格適正化および為替の影響などにより前年同期比増収大幅増益 日本 米州 欧州 アジア・オセアニア 26/3期 27/3期 前年 26/3期 27/3期 前年 26/3期 27/3期 前年 26/3期 27/3期 前年 （単位：百万円） Q2累計 Q2累計 同期比 Q2累計 Q2累計 同期比 Q2累計 Q2累計 同期比 Q2累計 Q2累計 同期比
Slide 6: 通期業績予想の修正
通期業績予想の修正 計測・計量機器事業、医療・健康機器事業の業績が好調に推移したことに加え、米国関税の還付や為替の影響 などにより、第2四半期累計業績が当初予想を上回って進捗、今後の需要予測なども踏まえ、通期業績予想を 上方修正 2027/3期 ２Q累計 2027/3期 通期 （ご参考）2026/3期 対当初予想 （単位：百万円） 当初予想 実績 予想達成率 当初予想 修正予想 実績 増減率 増減率 売上高 合計 28,000 30,172 107.8% 68,000 70,000 +2.9% 69,326 +1.0% （セグメント別） 半導体関連 - 1,279 - 8,500 8,500
Slide 7: 半導体製造を支える技術領域を拡張
半導体製造を支える技術領域を拡張 既存のCD-SEMで培った電子光学技術を 半導体関連事業 中長期的な競争力強化 フォトマスクの欠陥修正という新たな技術領域に応用 当社連結子会社の株式会社ホロン（以下、「ホロン」）は、収差補正SEMを活用したフォトマスク欠陥修正技術に関する研究成果を、 2026年９月８日から11日に米国カリフォルニア州モントレーで開催されたフォトマスク技術分野の国際学会「SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026」において発表しました。 • 従来からホロンCD-SEMに搭載されている「収差補
Slide 8: （ご参考資料）事業内容
（ご参考資料）事業内容 1.6nmノード以降のEUVマスク製造に求められる寸法測定精度のフォトマスク寸法測定装置や、ナノレベルで計測できる電子顕微鏡、 半導体関連事業 微細加工装置に組み込む電子銃など、半導体製造工程における前工程の「フォトマスク作成」に関わる製品を提供 前工程 後工程 マスク工程 フォトリソ工程 完成 切断・接着工程 封止工程 ICチップ 完成 回路 フォトマスク作成 露光 ウエハ ウエハ 設計 検査 完成 フォトマスク用 フォトマスク用 ◼ その他の製品 電子銃 超高性能高圧電源 ・超高性能定電流電源 CD-SEM 欠陥レビュー＆分析SEM ・高速高精度偏向アンプ 計測・計
Slide 9: 投資家情報・ご注意
https://andholon.com/ir/ 投資家情報：https://andholon.com/ir/ https://andholon.com/ir/library/ IRライブラリ：https://andholon.com/ir/library/ ご注意 本資料に含まれる予想に関する記載は、現時点における情報に基づき判断したものであり、今後、日本及び世界の経済動向、新たな技術開発の進展により変動することがあります。 従って、当社としては、その正確性を保証するものではありません。
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